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Official data from INPI

MÉTODO PARA A PRODUÇÃO DE SILÍCIO DE ALTA PUREZA

Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · JP2006304187

Application data

Number

PI0608898

Type

Invention Patent

Filing

02/28/2006

Publication

02/09/2010

PCT

JP2006304187

Progress at the INPI

  1. Filing02/28/06
  2. Publication02/09/10
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 02/11/2014. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

NIPPON STEEL MATERIALS CO., LTD.

JP

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Inventors

N. I. (pessoa física)

JP

Technical data

IPC Classification

Priority claims

JP

2005-062559 · 03/07/2005

JP

2006-034360 · 02/10/2006

Abstract

MÉTODO PARA A PRODUÇÃO DE SILÍCIO DE ALTA PUREZA. A presente invenção refere-se a um método para a produção de uma grande quantidade de silício de alta pureza econômico útil para uma bateria solar. É descrito um método para a produção de silício de alta pureza migrando impurezas no silício para a escória incluindo executar uma primeira purificação da escória de um primeiro silício, separar a escória do primeiro silício depois de terminar a primeira purificação da escória e alimentar a escória separada para um segundo silício fundido em uma segunda purificação do segundo silício, em que a pureza do dito segundo silício antes da purificação é menor do que a pureza do primeiro silício depois da purificação.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2211 de 21/05/2013.

02/11/2014

RPI 2249

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente á 7ª anui dade.

05/21/2013

RPI 2211

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

02/09/2010

RPI 2040

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