ALVOS PARA FAISCAMENTO DE MOLIBDÊNIO

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Abstract

ALVOS PARA FAISCAMENTO DE MOLIBDÊNIO. A presente invenção refere-se a alvos para faiscamento de molibdênio e sinterização caracterizados por não terem nenhuma ou uma mínima rugosidade de textura ou gradiente através da espessura. Os alvos de faiscamento de molibdênio tendo um tamanho de grão uniforme fino são de alta pureza e podem ser microligados para desempenho aperfeiçoado. Os alvos para faiscamento podem ser discos redondos, quadrados, retangulares ou tubulares e podem ser faiscados para formar filmes delgados sobre substratos. Ao se usar o método formador de segmento, o tamanho do alvo para faiscamento pode ser de até 6 m x 5,5 m. Os filmes delgados podem ser usados em componentes eletrônicos tais como Transistor de Filme Delgado - Mostradores de Cristal Líquido, Painéis para Mostrador de Plasma, Diodos Emissores de Luz Orgânicos, Mostradores para Diodos Emissores de Luz Inorgânicos, Mostradores para Emissão de Campa, células solares, sensores, dispositivos semicondutores e dispositivo para portão para CMOS (semicondutor de óxido de metal complementar) com funções de trabalho sintonizáveis.