Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2158 de 15/05/2012.
10/09/2012
RPI 2179
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Official data from INPI
MÉTODOS PARA A FORMAÇÃO DE FILMES DE ALFA E BETA TÂNTALO COM MICROESTRUTURAS CONTROLADAS
Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · US2005009763
Application data
Number
PI0509189Type
Invention Patent
Filing
03/24/2005
Publication
09/25/2007
PCT
US2005009763 Progress at the INPI
- Filing03/24/05
- Publication09/25/07
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 10/09/2012. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
H.C. Starck, INC.
US
N. U. (pessoa física)
US
Inventors
J. N. (pessoa física)
US
P. K. (pessoa física)
US
R. W. (pessoa física)
US
Technical data
IPC Classification
Priority claims
US
60/555,759 · 03/24/2004
Abstract
MÉTODOS PARA A FORMAÇÃO DE FILMES DE ALFA E BETA TÂNTALO COM MICROESTRUTURAS CONTROLADAS. A presente invenção refere-se a filmes de tântalo finos que tem novas microestruturas. Os filmes tem microestruturas, tais como cristalinas, de cristal único e amorfas. Estes filmes provêem excelentes propriedades debarreira de difusão e são úteis nos dispositivos microeletrônicos. Métodos para formar os filmes que utilizam os métodos de deposição de laser pulsado (PLD) e de epitaxia de feixe molecular (MBE) são também providos, como são os dispositivos microeletrônicos que incorporam estes filmes.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente às 5ª, 6ª e 7ª anuidades.
05/15/2012
RPI 2158
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
09/25/2007
RPI 1916
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