COMPOSIÇÃO AQUOSA, ISENTA DE SILICATO, PARA LIMPEZA DE SUBSTRATOS MICROELETRÔNICOS, BEM COMO PROCESSO PARA LIMPEZA DE UM SUBSTRATO MICROELETRÔNICO SEM PRODUZIR QUALQUER CORROSÃO METÁLICA SUBSTANCIAL

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Abstract

"COMPOSIÇÃO AQUOSA, ISENTA DE SILICATO, PARA LIMPEZA DE SUBSTRATOS MICROELETRÔNICOS, BEM COMO PROCESSO PARA LIMPEZA DE UM SUBSTRATO MICROELETRÔNICO SEM PRODUZIR QUALQUER CORROSÃO METÁLICA SUBSTANCIAL". A presente invenção refere-se a composições aquosas para limpeza e métodos de utilização das composições de limpeza para a limpeza de substratos microeletrônicos, cujas composições são capazes de limpar essencialmente e completamente esses substratos e não produzem essencialmente corrosão de metal dos elementos de metal de tais substratos. As composições aquosas de limpeza desta invenção têm: (a) água, (b) pelo menos um dos íons de amônio e amônio quaternário, (c) pelo menos um dos íons de hipofosfito (H~ 2~PO~ 2~) e/ou fosfito (HPO~ 3~^ 2-^) As composições de limpeza também podem conter íons de fluoreto. Opcionalmente, a composição pode conter outros componentes tais como solventes orgânicos, agentes de oxidação, agentes tensoativos, inibidores de corrosão e agentes de complexação de metais.