Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
08/16/2016
RPI 2380
Application data
Number
PI1008034Type
Filing
Publication
PCT
US2010024529 The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 02/18/2010 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
Avantor Performance Materials, Inc.
US
Inventors
G. W. (pessoa física)
US
Priority claims
US
61/155,206 · 02/25/2009
US
61/232,800 · 08/11/2009
Abstract
COMPOSIÃÃES REMOVEDORAS PARA LIMPEZA DE FOTORRESISTOR IMPLANTADO POR ÃONS DE DISCOS DE SILÃCIO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUTORESA presente invenção refere-se a uma composição para a remoção de fotorresistor implantado por Ãons de alta dosagem da superfÃcie de um dispositivo semicondutor, a composição contendo pelo menos um solvente com um ponto de fulgor> 65°C, pelo menos um componente que forneça um Ãon nitrônio e pelo menos um composto inibidor da corrosão de ácido fosfônico, e uso dessa composição para remover o fotorresistor implantado por Ãons de alta dosagem da superfÃcie de um dispositivo semicondutor..
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
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