MÉTODO DE MODELAR UM SUBSTRATO E MÉTODO DE MASCARAR UM SUBSTRATO

IPC Classification

Priority claims

Abstract

"MÉTODO DE PRODUZIR TRAÇOS FINOS POR IMPRESSÃO A JATO E TRATAMENTO DE SUPERFÍCIE". A invenção refere-se à descrição de um método e de um sistema para mascarar uma superfície a ser submetida à gravação. O método inclui a operação de aquecer um material de mascarar de mudança de fase e usar uma fonte de gotículas para ejetar gotículas de um material de mascarar para serem depositadas sobre uma película fina ou outra superfície de substrato a ser gravada. A temperatura da película fina ou superfície de substrato é controlada de modo que as gotículas congelem rapidamente depois de contactarem à película fina ou superfície de substrato. A película fina ou substrato é em seguida tratado para alterar as características de superfície, tipicamente mediante o depósito de uma monocamada automontada, sobre a superfície. Após a deposição, o material de mascarar é removido. Um material de interesse é em seguida depositado sobre o substrato de modo a aderir apenas a regiões não originalmente cobertas pela máscara, de tal forma que a máscara atue como um resistor negativo. Com o emprego de tais técnicas, podem ser produzidos tamanhos de traço de dispositivos menores do que a menor gotícula impressa.