Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
12/19/2023
RPI 2763
Application data
Number
102019009587Type
Filing
Publication
The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
X. C. (pessoa física)
US
Inventors
B. A. (pessoa física)
CA
C. M. (pessoa física)
CA
G. S. (pessoa física)
CA
N. C. (pessoa física)
CA
R. C. (pessoa física)
CA
IPC Classification
Priority claims
US
US 15/997,753 · 06/05/2018
Abstract
COMPOSIÇÕES DE TINTA TRANSLÚCIDA À BASE DE ÁGUATrata-se de uma composição de tinta aquosa que incluiágua; um cossolvente opcional; um poliéster sulfonado, em que o poliéstersulfonado tem um grau de sulfonação de pelo menos cerca de 3,5 mol porcento; e uma borracha de isopreno. Um processo de impressão offset digitalque inclui aplicar uma composição de tinta em uma superfície de membro deimageamento passível de reimageamento a uma temperatura de impregnaçãode tinta, sendo que o membro de imageamento passível de reimageamentotem fluido de amortecimento disposto no mesmo; formar uma imagem de tinta;transferir a imagem de tinta da superfície passível de reimageamento domembro de imageamento para um substrato imprimível a uma temperatura detransferência de tinta; sendo que a composição de tinta compreende água; umcossolvente opcional; um poliéster sulfonado que tem um grau de sulfonaçãode pelo menos cerca de 3,5 por cento em mol; e uma borracha de isopreno.Um processo que inclui combinar uma resina de poliéster sulfonado, que temum grau de sulfonação de pelo menos cerca de 3,5 por cento em mol, água,um cossolvente opcional e uma borracha de isopreno para formar umacomposição de tinta aquosa, sendo que a composição de tinta ésubstancialmente incolor.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.2
12/19/2023
RPI 2763
#6.23
09/05/2023
RPI 2748
#3.1
12/10/2019
RPI 2553
#2.1
07/02/2019
RPI 2530
#2.10
Número de Protocolo '870190044243' em 10/05/2019 15:00 (WB)
05/21/2019
RPI 2524
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