DISPOSITIVO DE REVESTIMENTO POR POLIMERIZAÇÃO DE PLASMA.

IPC Classification

Priority claims

Abstract

É provido um dispositivo para formar um revestimento por plasma polimerizado. No dispositivo, seções transversais de uma parede lateral interna de uma câmara de vácuo (1) são círculos possuindo o mesmo diâmetro ou polígonos regulares possuindo lados do mesmo comprimento, os polígonos regulares possuindo pelo menos seis lados. Um eletrodo poroso (2) é instalado em uma parede interna da câmara de vácuo (1). O eletrodo poroso (2) é conectado a uma fonte de alimentação de alta frequência (3). Pelo menos duas cavidades de descarga vedadas (4) estão arranjadas em uma parede externa da câmara de vácuo (1). Pelo menos duas grades metálicas (5) são providas em uma região onde a cavidade de descarga (4) está conectada à parede interna da câmara de vácuo (1). Um tubo de coleta de gás de exaustão (11) está verticalmente instalado em um eixo geométrico central na câmara de vácuo (1). É provida uma prateleira de rotação (12) no interior da câmara de vácuo (1). Um eixo geométrico de rotação da prateleira de rotação (12) é coaxial com o eixo geométrico central da câmara de vácuo (1). Um substrato (15) a ser tratado é colocado sobre a prateleira de rotação (12). O dispositivo usa uma câmara de vácuo com uma estrutura simétrica em relação a um eixo geométrico central da mesma para manter uma concentração estável de uma espécie ativa em uma polimerização espacial. O dispositivo provê uma câmara de vácuo de grande volume, permite processamento de grandes lotes em uma única operação, e possui alta eficiência de processamento, baixo custo e boa uniformidade de produtos processados em batelada.