Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho publicado na RPI 1975 de 11/11/2008.
27/10/2009
RPI 2025
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Dado oficial do INPI
ESPELHO ELETRO-QUÍMICO PARA CONTROLAR DE MANEIRA REVERSÍVEL A REFLEXÃO DE RADIAÇÃO ELETROMAGNÉTICA
Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · US1999017990
Dados do pedido
Número
PI9916346Tipo
Patente de Invenção
Depósito
09/08/1999
Publicação
02/10/2001
PCT
US1999017990 Andamento no INPI
- Depósito09/08/99
- Publicação02/10/01
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 27/10/2009. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Rockwell Science Center, LLC
US
Inventores
D. T. (pessoa física)
US
L. J. (pessoa física)
US
M. C. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
09/333385 · 15/06/1999
US
PCT/US98/26610 · 15/12/1998
Resumo técnico
"ESPELHO ELETRO-QUÍMICO PARA CONTROLAR DE MANEIRA REVERSÍVEL A REFLEXÃO DE RADIAÇÃO ELETROMAGNÉTICA". Um espelho é eletroquímico inclui um primeiro eletrodo transparente 106 e um segundo eletrodo 110. Uma solução eletrolítica 112 colocada entre os primeiro e segundo eletrodos contém íons 116 de um metal que pode eletrodepositar sobre os eletrodos. Um potencial elétrico negativo 118 aplicado ao primeiro eletrodo faz com que material depositado seja dissolvido a partir do segundo eletrodo para a solução eletrolítica e ser depositado a partir da solução sobre o primeiro eletrodo, afetando com isto a reflexividade do espelho para radiação eletromagnética 122. Uma camada de modificação superficial 108, aplicada ao primeiro eletrodo, assegura que o eletrodepositado é substancialmente uniforme resultando em uma camada de espelho que aumenta a reflexividade do espelho. Um potencial elétrico positivo 118 aplicado ao primeiro eletrodo faz com que material depositado seja dissolvido a partir do primeiro eletrodo e eletrodepositado a partir da solução sobre o segundo eletrodo, diminuindo com isto a reflexividade do espelho.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente à 7ª, 8ª e 9ª anuidade.
11/11/2008
RPI 1975
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
02/10/2001
RPI 1604
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