Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
referente ao despacho publicado na rpi 1942 de 25 - 03 - 2008.
02/09/2008
RPI 1965
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Dado oficial do INPI
ESPELHO ELETROQUÍMICO PARA CONTROLAR REVERSIVELMENTE A PROPAGAÇÃO DE RADIAÇÃO ELETROMAGNÉTICA.
Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · US1998026691
Dados do pedido
Número
PI9813803Tipo
Patente de Invenção
Depósito
15/12/1998
Publicação
16/01/2001
PCT
US1998026691 Andamento no INPI
- Depósito15/12/98
- Publicação16/01/01
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 02/09/2008. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Rockwell Science Center, LLC
US
Inventores
D. T. (pessoa física)
US
L. J. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
08/994412 · 19/12/1997
Resumo técnico
''ESPELHO ELETROQUÍMICO PARA CONTROLAR REVERSIVELMENTE A PROPAGAÇÃO DE RADIAÇÃO ELETROMAGNÉTICA'' Um espelho eletroquímico inclui um primeiro eletrodo transparente (106) e um segundo eletrodo (110) distribuído em áreas localizadas. Uma solução eletrolítica (112) é disposta entre o primeiro e segundo eletrodos e contém íons (116) de um metal que pode se eletrodepositar sobre o primeiro e segundo eletrodos. Um potencial elétrico negativo (118) aplicado ao primeiro eletrodo faz com que o metal depositado seja dissolvido do segundo eletrodo na solução eletrolítica e seja eletrodepositado da solução no primeiro eletrodo, afetando deste modo a propagação de radiação eletromagnética através do espelho. Uma camada de modificação de superfície (108) aplicada ao primeiro eletrodo assegura que o eletrodepósito é substancialmente uniforme, resultando em uma camada de espelho que aumenta a reflexibilidade do espelho. Inversamente, um potencial elétrico positivo (118) aplicado ao primeiro eletrodo faz com que o metal depositado seja dissolvido do primeiro eletrodo e eletrodepositado da solução sobre o segundo eletrodo, deste modo aumentando a transmissividade do espelho.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente a 8ª e 9ª anuidades.
25/03/2008
RPI 1942
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
16/01/2001
RPI 1567
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