Dado oficial do INPI

DISPOSITIVO DE ESPELHO ELETROQUÍMICO REVERSÍVEL PARA CONTROLAR A REFLEXÃO DE RADIAÇÃO ELETROMAGNÉTICA.

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US2000016858

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Dados do pedido

Número

PI0006947

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

20/06/2000

Publicação

31/07/2001

PCT

US2000016858

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Andamento no INPI

Depósito20/06/00
Publicação31/07/01
Arquivado
Deferimento
Concessão
Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 20/06/2000, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 05/12/2006. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Rockwell Science Center, LLC

Inventores

L. J. (pessoa física)

M. C. (pessoa física)

M. T. (pessoa física)

Dados técnicos

Classificação IPC

C07D 241/46 C25D 5/02 G02F 1/153

Prioridades unionistas

09/356730 · 19/07/1999

Resumo técnico

"DISPOSITIVO DE ESPELHO ELETROQUÍMICO REVERSÍVEL PARA CONTROLAR A REFLEXÃO DE RADIAÇÃO ELETROMAGNÉTICA". Um espelho eletroquímico reversível (REM) inclui um primeiro eletrodo (106) e um segundo eletrodo (110), um dos quais é substancialmente transparente. Uma solução eletrolítica (112), disposta entre o primeiro e o segundo eletrodos, contém íons (116) de um metal que pode eletrodepositar sobre os eletrodos dependendo do potencial aplicado. A solução eletrolítica também contém ânions haleto e/ou pseudo-haletos tendo uma relação de concentração molar total de pelo menos 6:1 comparado aquela do metal eletrodepositável. É usualmente necessário aplicar uma camada de modificação de superfície (108) ao primeiro eletrodo para assegurar nucleação uniforme de forma que um eletrodepósito de espelho tendo reflexividade alta é obtido.