Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
20/07/2004
RPI 1750
Dados do pedido
Número
PI9909618Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US1999007362 Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 01/04/1999, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 20/07/2004. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Alcon Laboratories, Inc
US
Inventores
A. L. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
60/081,874 · 15/04/1998
Resumo técnico
Patente de Invenção: ''MATERIAIS DE DISPOSITIVO OFTALMICO DE ALTO ÍNDICE REFRATIVO PREPARADO USANDO UM PROCESSO DE RETICULAÇÃO PÓS-POLIMERIZAÇÃO'' . Materiais de dispositivo oftálmico de alto índice refrativo, acrílicos, compreendendo um monômero acrílico de arila, um iniciador de polimerização do primeiro estágio e um agente de reticulação do segundo estágio são preparados em um processo em dois estágios. Os monômeros usados para formar os materiais de dispositivo oftálmico não contêm agentes de reticulação tendo mais de uma ligação insaturada. No processo do primeiro estágio, os materiais são polimerizados. No segundo estágio, os materiais são reticulados por exposição ao calor.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.1.1
20/07/2004
RPI 1750
#11.1
02/12/2003
RPI 1717
#1.3
12/12/2000
RPI 1562
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