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Dado oficial do INPI

MATERIAIS DE DISPOSITIVO OFTÁLMICO DE ALTO ÍNDICE REFRATIVO PREPARADO USANDO UM PROCESSO DE RETICULAÇÃO PÓS-POLIMERIZAÇÃO

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US1999007362

Dados do pedido

Número

PI9909618

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

01/04/1999

Publicação

12/12/2000

PCT

US1999007362

Andamento no INPI

  1. Depósito01/04/99
  2. Publicação12/12/00
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 01/04/1999, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 20/07/2004. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Alcon Laboratories, Inc

US

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Inventores

A. L. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Prioridades unionistas

US

60/081,874 · 15/04/1998

Resumo técnico

Patente de Invenção: ''MATERIAIS DE DISPOSITIVO OFTALMICO DE ALTO ÍNDICE REFRATIVO PREPARADO USANDO UM PROCESSO DE RETICULAÇÃO PÓS-POLIMERIZAÇÃO'' . Materiais de dispositivo oftálmico de alto índice refrativo, acrílicos, compreendendo um monômero acrílico de arila, um iniciador de polimerização do primeiro estágio e um agente de reticulação do segundo estágio são preparados em um processo em dois estágios. Os monômeros usados para formar os materiais de dispositivo oftálmico não contêm agentes de reticulação tendo mais de uma ligação insaturada. No processo do primeiro estágio, os materiais são polimerizados. No segundo estágio, os materiais são reticulados por exposição ao calor.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

20/07/2004

RPI 1750

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

02/12/2003

RPI 1717

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

12/12/2000

RPI 1562

Monitoramento de patentes

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