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Dado oficial do INPI

MATERIAIS PARA DISPOSITIVOS OFTÁLMICOS COM ALTO ÍNDICE DE REFRAÇÃO

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US1999007355

Dados do pedido

Número

PI9906720

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

01/04/1999

Publicação

10/10/2000

PCT

US1999007355

Andamento no INPI

  1. Depósito01/04/99
  2. Publicação10/10/00
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 01/04/1999, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 20/07/2004. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Alcon Laboratories, INC

US

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Inventores

A. L. (pessoa física)

US

C. F. (pessoa física)

US

D. J. (pessoa física)

US

M. K. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

60/081,814 · 15/04/1998

Resumo técnico

Patente de Invenção: "MATERIAIS PARA DISPOSITIVOS OFTÁLMICOS COM ALTO ÍNDICE DE REFRAÇÃO" . Esta invenção apresenta copolímeros de alto índice de refração adequados para uso em dispositivos oftálmicos. Os copolímeros compreendem a) dois ou mais monômeros de estrutura (I), onde X é H ou CH~ 3~; m é 0-10; Y é nada, O, S ou NR, onde R é H, CH~ 3~, C~ n~H~ 2n+1~ (n=1-10), iso-OC~ 3~H~ 7~, C~ 6~H~ 5~ ou CH~ 2~C~ 6~H~ 5~; Ar é qualquer anel aromático que pode ser não-substituído ou substituído com H, CH~ 3~, C~ 2~H~ 5~, n-C~ 3~H~ 7~, iso-C~ 3~H~ 7~, OCH~ 3~, C~ 6~H~ 11~, Cl, Br, C~ 6~H~ 5~ ou CH~ 2~C~ 6~H~ 5~; e b) um total de cerca de 5% molar ou menos de um ou mais monômeros de estrutura (II), onde X é H ou CH~ 3~; W é -CH~ 3~ ou (CH~ 2~=C(-X)-C(=O)-); e n é tal que o peso molecular ponderal médio é de aproximadamente 600 - 1000 se W é -CH~ 3~, e de aproximadamente 400 - 1000 se W é (CH~ 2~=C(-X)-C(=O)-).

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

20/07/2004

RPI 1750

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

02/12/2003

RPI 1717

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

10/10/2000

RPI 1553

Monitoramento de patentes

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