APARELHO PARA REALIZAR DEPOSIÇÃO QUÍMICA DE VAPOR DO PLASMA, E, PROCESSOS PARA FABRICAR UMA FIBRA ÓTICA, PARA FABRICAR UMA HASTE DE PREFORMA DE FIBRA ÓTICA E PARA FABRICAR UM TUBO DE REVESTIMENTO PARA UMA PREFORMA DE FIBRA ÓTICA

Classificação IPC

Prioridades unionistas

Resumo técnico

"APARELHO PARA REALIZAR DEPOSIÇÃO QUÍMICA DE VAPOR DO PLASMA, E, PROCESSOS PARA FABRICAR UMA FIBRA ÓTICA, PARA FABRICAR UMA HASTE DE PREFORMA DE FIBRA ÓTICA E PARA FABRICAR UM TUBO DE REVESTIMENTO PARA UMA PREFORMA DE FIBRA ÓTICA". A invenção é relativa a um aparelho para realizar deposição química de vapor do plasma (PCVD), pelo que uma ou mais camadas de sílica podem ser depositadas sobre um substrato vítreo alongado, o aparelho compreendendo uma guia de microonda alongada que emerge no interior de uma cavidade ressonante, a qual é substancialmente simétrica cilindricamente ao redor de um eixo cilíndrico, ao longo de cujo eixo o substrato pode ser posicionado, em cujo aparelho: a cavidade é substancialmente anular em forma, com uma parede cilíndrica interna e uma parede cilíndrica externa; a parede cilíndrica interna compreende uma fenda que se estende em um circulo completo ao redor do eixo cilíndrico; a guia tem um eixo longitudinal que é substancialmente perpendicular ao eixo cilíndrico e que não intercepta a fenda. A invenção também é relativa a um processo para fabricar uma fibra ótica, uma haste de preforma, e um tubo de revestimento que utiliza dito aparelho, bem como a fibra ótica assim obtida.