Concessão da patente
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 14/12/2012, observadas as condições legais
11/05/2021
RPI 2627
Dados do pedido
Número
102012032086Tipo
Depósito
Publicação
Patente concedida em 11/05/2021 e em vigor até 14/12/2032. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:14/12/2032
Última movimentação publicada pelo INPI: 11/05/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
DRAKA COMTEQ, B.V.
NL
Inventores
I. M. (pessoa física)
NL
J. H. (pessoa física)
NL
M. S. (pessoa física)
NL
Classificação IPC
Prioridades unionistas
NL
2007968 · 14/12/2011
Resumo técnico
APARELHO PARA REALIZAR UM PROCESSO DE DEPOSIÇÃO QUÍMICA DE VALOR DE PLASMA. A invenção diz respeito a um aparelho para realizar um processo de deposição química de vapor de plasma. O aparelho compreende um ressoador basicamente cilíndrico que é provido com uma parede cilíndrica externa que encerra uma cavidade ressoante estendendo-se em uma direção circunferencial em torno de um eixo cilíndrico. O ressoador é adicionalmente provido com porções de parede lateral delimitando a cavidade ressoante na direção cilíndrica, e com uma configuração fendilhada estendendo-se em uma direção circunferencial em torno do eixo cilíndrico, provendo acesso da cavidade ressoante radialmente para dentro. Adicionalmente, a configuração fendilhada inclui seções de fendas que são mutuamente deslocadas na direção cilíndrica.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 14/12/2012, observadas as condições legais
11/05/2021
RPI 2627
#9.1
06/04/2021
RPI 2622
#15.11
As Classificações Anteriores eram: H01J 37/00 , C23C 16/50
12/01/2021
RPI 2610
#6.1
05/01/2021
RPI 2609
#6.21
15/10/2019
RPI 2545
#6.6.1
04/12/2018
RPI 2500
#25.7
01/03/2017
RPI 2408
#3.1
14/04/2015
RPI 2310
#2.1
17/12/2013
RPI 2241
#2.10
Número de Protocolo 20120116506 em 14/12/2012 04:47(RJ).
30/04/2013
RPI 2208
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