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Dado oficial do INPI

Processo e equipamento para o tratamento de resíduos infecciosos

Arquivada/ExtintaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI9702790

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

10/09/1997

Publicação

15/06/1999

Andamento no INPI

  1. Depósito10/09/97
  2. Publicação15/06/99
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 01/11/2005. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

F. A. (pessoa física)

SP, BR

Inventores

F. A. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

"PROCESSO E EQUIPAMENTO PARA O TRATAMENTO DE RESÍDUOS INFECCIOSOS", onde o processo compreende as etapas de: alimentar continuamente a primeira câmara de um reator a plasma com os resíduos infecciosos a serem tratados; aquecer e manter aquecido em cerca de 1200°C esses resíduos infecciosos contidos na primeira câmara, gerando os gases resultante das reações de oxidação e também volatilizando o material contido nos resíduos; alimentar a segunda câmara do reator a plasma com a parte inorgânica dos resíduos; aquecer e manter aquecido em cerca de 1400°C na segunda câmara do reator a plasma a parte inorgânica dos resíduos, liquefazendo-os; retirar do material líquido de dentro do reator a plasma; resfriar este líquido inorgânico, gerando subprodutos inertes e passíveis de serem reaproveitados; direcionar os gases resultantes do reator a plasma para uma câmara de oxidação, submetendo-os a reações de oxidação complementares e combustão; direcionar os gases oxidados à uma caldeira geradora de vapor; submeter esses gases a um sistema de limpeza; liberar para a atmosfera os gases limpos. O equipamento utilizado para a realização do processo é compreendido por um reator a plasma contando com câmaras separadas para a gaseificação dos resíduos e liquefação dos mesmos; um conjunto de tochas de plasma de arco não transferido colocadas em posições tais dentro do reator a plasma que permitem a gaseificação e liquefação dos resíduos infecciosos. Outros equipamentos normalmente utilizados em outros processos podem ser adaptados para o processo de tratamento de resíduos infecciosos. Esses equipamentos acessórios incluem: uma câmara secundária de combustão opcional caso as reções dos gases não se completem no reator a plasma; caldeiras ou geradores de eletricidade para aproveitamento do energia do processo; sistema de limpeza de gases compostos por exemplo por filtros de manga, lavadores de gases, ciclones e outros.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente a 5ª,6ª,7ª e 8ª anuidades.

01/11/2005

RPI 1817

Publicação do pedido de patente

#3.1

15/06/1999

RPI 1484

Pedido de patente depositado

#2.1

13/01/1998

RPI 1412

Monitoramento de patentes

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