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Dado oficial do INPI

ELETROVÁLVULA COM VAZÃO REGULÁVEL E APARELHAGEM DE MASSAGEM

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · FR1994001167

Dados do pedido

Número

PI9407242

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

06/10/1994

Publicação

24/09/1996

PCT

FR1994001167

Andamento no INPI

  1. Depósito06/10/94
  2. Publicação24/09/96
  3. Exame
  4. Deferimento04/09/01
  5. Concessão19/03/02
  6. Extinto10/09/13

Patente concedida em 19/03/2002 e depois extinta em 10/09/2013. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 10/09/2013. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

L. S. (pessoa física)

FR

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Inventores

J. D. (pessoa física)

FR

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

FR

93/12151 · 07/10/1993

Resumo técnico

Patente de Invenção "ELETROVÁLVULA COM VAZÃO REGULÁVEL E APARELHAGEM DE MASSAGEM". Eletroválvula com vazão regulável, que compreende: um conjunto obturador (8) deslocável no interior de uma câmara (7) na qual desemboca um conduto (3) ligado à zona de alta pressão e um conduto (4) ligado a uma zona de baixa pressão. A eletroválvula se caracteriza pelo fato de que o conjunto obturador é constituído por uma chapeleta (8) deslocável livremente no interior da dita câmara (7), chapeleta esta em forma de disco, plano, leve, não deformável, apta a ser levada automaticamente para a sua posição que permite o escoamento do fluido quando a pressão no interior do conduto (HP) de admissão (5) tende para um valor próximo de uma pressão nominal predeterminada: o escoamento do fluido através da chapeleta (8) é obtido por intermédio de orifícios (10) praticados na espessura desta última, orifícios estes dispostos numa zona mediana no exterior da periferia do conduto de admissão (3) a fim que este último possa ser obturado quando a chapeleta (8) é solicitada sob a ação da força eletromagnética; ela comporta meios de regulagem da força eletromagnética de solicitação exercida pelo eletroímã permitindo, por um lado, posicionar a dita chapeleta (8) em um nível predeterminado entre a abertura e o fechamento para obter uma vazão constante predeterminada e, por outro lado, deslocar a mesma alternativamente, segundo uma frequência predeterminada, permitindo assim obter uma vazão alternativa de mesma frequência e de amplitude regulável, acarretando um funcionamento sequencial, pulsado e rítmico.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente ao despacho publicado na RPI 2059 de 22/06/2010 e ao não recolhimento da 16ª, 17ª, 18ª e 19ª anuidades.

10/09/2013

RPI 2227

24.3

Referente 12a., 13a., 14a. e 15a. anuidades.

22/06/2010

RPI 2059

Concessão da patente

#16.1

19/03/2002

RPI 1628

Deferimento

#9.1

04/09/2001

RPI 1600

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

07/11/2000

RPI 1557

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

24/09/1996

RPI 1347

Monitoramento de patentes

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