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Dado oficial do INPI

COMPOSIÇÃO COSMÉTICA REMOVEDORA DE MAQUIAGEM

Arquivada/ExtintaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI1103729

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

16/08/2011

Publicação

30/07/2013

Andamento no INPI

  1. Depósito16/08/11
  2. Publicação30/07/13
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 25/07/2017. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

BOTICA COMERCIAL FARMACEUTICA LTDA

PR, BR

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Inventores

C. P. (pessoa física)

BR

D. M. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Resumo técnico

COMPOSIÇÃO COSMÉTICA REMOVEDORA DE MAQUIAGEM. Formulações cosméticas que compreendem emolientes, agentes de estrutura, agentes antioxidantes, agente de remoção, agentes estabilizantes, podendo conter componentes auxiliares tais como umectantes, fragrâncias, ingredientes ativos e conservantes. Tais composições, quando utilizadas como removedoras de maquiagem, são capazes de remover efetivamente a maquiagem aplicada na pele, deixando-a limpa e seca. A apresentação de tal composição se dá na forma sólida cerosa, configurada como lápis, bastão ou envasada em potes ou frascos.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Republicação - classificação IPC

#15.11

As classificações anteriores eram: A61K 8/92; A61K 8/72; A61K 8/31; A61K 8/02; A61Q 1/14; A61K 8/98; A61K 8/97

25/07/2017

RPI 2429

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2268 de 24/06/2014.

25/11/2014

RPI 2290

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 3ª anuidade.

24/06/2014

RPI 2268

Publicação do pedido de patente

#3.1

30/07/2013

RPI 2221

Pedido de patente depositado

#2.1

17/07/2012

RPI 2167

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo 18110031570 em 16/08/2011 01:20(SP).

17/01/2012

RPI 2141

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