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Dado oficial do INPI

VELA DE IGNIÇÃO E PROCESSO PARA A PRODUÇÃO DA MESMA

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · JP2009070723

Dados do pedido

Número

PI0917198

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

11/12/2009

Publicação

10/11/2015

PCT

JP2009070723

Andamento no INPI

  1. Depósito11/12/09
  2. Publicação10/11/15
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 11/12/2009, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 26/07/2016. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

NGK Spark Plug CO LTD

JP

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Inventores

A. T. (pessoa física)

JP

T. K. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Prioridades unionistas

JP

2009-021069 · 02/02/2009

Resumo técnico

VELA DE IGNIÃÃO E PROCESSO PARA A PRODUÃÃO DA MESMA. à fornecida uma vela de ignição na qual um filme de revestimento aplicado a um eletrodo terra pode ser relativamente facilmente removido, sem aumento de custo, para evitar deterioração em desempenho de ignição, e um processo para produzir a vela de ignição. Uma vela de ignição 1 tem um invólucro de metal 3, um eletrodo terra 27 feito de uma liga de Ni e uma camada de revestimento de Ni 28 contendo Ni como componente principal e aplicado a superfícies de pelo menos uma porção de extremidade traseira do eletrodo terra 27 e do invólucro de metal 3. Um filme de revestimento de Ni 41 aplicado a uma parte do lado do eletrodo central de uma porção do eletrodo terra 27 a ser curvo foi irradiado com um feixe laser ou similar, desse modo formando uma camada fundida 29 na qual materiais de metal do filme de revestimento de Ni 41 e eletrodo terra 27 são fundidos juntos na parte do lado de eletrodo central da porção do eletrodo terra 27 a ser curvo. A camada de revestimento de Ni 28 é formada em uma parte do eletrodo terra 27 diferente da parte irradiada com o feixe laser.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

26/07/2016

RPI 2377

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

12/04/2016

RPI 2362

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

10/11/2015

RPI 2340

Alteração de dados cadastrais

#1.1

06/09/2011

RPI 2122

Monitoramento de patentes

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