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Dado oficial do INPI

PROCESSO DE EXTRUSÃO PARA ENXERTAR BORRACHA

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · EP2008066534

Dados do pedido

Número

PI0820761

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

01/12/2008

Publicação

16/06/2015

PCT

EP2008066534

Andamento no INPI

  1. Depósito01/12/08
  2. Publicação16/06/15
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 05/04/2016. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

DSM IP ASSESTS B.V.

NL

LANXESS ELASTOMERS B.V.

NL

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Inventores

F. H. (pessoa física)

NL

J. Z. (pessoa física)

US

J. G. (pessoa física)

NL

P. M. (pessoa física)

BE

Dados técnicos

Prioridades unionistas

EP

07024052.8 · 12/12/2007

US

61/013,359 · 13/12/2007

Resumo técnico

PROCESSO DE EXTRUSÃO PARA ENXERTAR BORRACHA. A invenção se refere a um processo para produzir uma borracha enxertada, compreendendo: a) fornecer uma borracha de etileno propileno com peso de peso molecular médio (Pm) de pelo menos 80 Kg/mol em um reator de extrusão contínua pela alimentação da borracha em uma unidade de dosagem de placa/fundição e transporte da borracha para o reator de extrusão contínua por uma bomba de material fundido; b) secar a borracha no reator de extrusão contínua até conteúdo de umidade entre cerca de 0,2 e cerca de 0,5% em peso; c) fomecer a borracha seca a uma primeira região de injeção do reator de extrusão contínua, em uma temperatura entre 190 e 250 °C, d) na primeira região de injeção, fornecer sucessivamente uma primeira quantidade de anidrido maleico e um primeiro iniciador de radical livre à borracha seca; e) reagir anidrido maileico com a borracha em uma primeira região reacional do reator de extrusão contínua para produzir borracha enxertada; f) em uma segunda região de injeção, fornecer com sucesso uma segunda quantidade de anidrido maleico e um segundo iniciador de radical livre, o primeiro e o segundo iniciador de radical livre sendo um peróxido orgânico com meia-vida (t1/2) de mais de 1 segundo se medido em monoclorobenzeno a 220 ºC. g) aplicar cisalhamento à borracha enxertada em uma segunda região de reação do reator de extrusão contínua, o cisalhamento suficiente para reduzir o peso do peso molecular médio (Pm) da borracha enxertada por um fator de pelo menos 2.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2343 de 01-12-2015 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

05/04/2016

RPI 2361

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente às 6ª e 7ª anuidades.

01/12/2015

RPI 2343

Transferência deferida

#25.1

27/10/2015

RPI 2338

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

16/06/2015

RPI 2319

Alteração de dados cadastrais

#1.1

30/08/2011

RPI 2121

Monitoramento de patentes

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