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Dado oficial do INPI

PROCESSO PARA PRODUÇÃO DE COMPOSTO DE PRECURSOR PARA COMPOSTO ORGÂNICO MARCADO COM HALOGÊNIO RADIOATIVO

Concessão AnuladaPatente de InvençãoPCT · JP2007074220

Dados do pedido

Número

PI0720465

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

17/12/2007

Publicação

14/01/2014

PCT

JP2007074220

Andamento no INPI

  1. Depósito17/12/07
  2. Publicação14/01/14
  3. Exame
  4. Deferimento09/10/18
  5. Concessão27/11/18
  6. Em vigor17/12/27

Patente concedida em 27/11/2018 e em vigor até 17/12/2027. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.

Proteção válida até:17/12/2027

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Última movimentação publicada pelo INPI: 27/07/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Nihon Medi-Physics CO., LTD.

JP

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Inventores

A. H. (pessoa física)

JP

M. T. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Prioridades unionistas

JP

2006-351883 · 27/12/2006

Resumo técnico

PROCESSO PARA PRODUÃÃO DE COMPOSTO PRECURSOR PARA COMPOSTO ORGÃNICO MARCADO COM HALOGÃNIO RADIOATIVO.Trata-se de um processo para produzir um precursor marcado que é útil para a produção de um composto aminoácido marcado com flúor radioativo. Na etapa de reação para introduzir um grupo abandonador em uma mistura da forma sin e da forma anti do FACBC, deixa-se uma base estar presente no sistema de reação para produzir um aduto do grupo abandonador sin que não reage com a base e é altamente estável, e um aduto do grupo abandonador anti capaz de reagir com a base para formar um composto hidrossolúvel. Ao empregar um método de purificação que utiliza tal diferença na solubilidade, o aduto do grupo abandonador sin pode ser separado seletivamente. A base pode ser uma alquila-mina primária a terciária, de cadeia linear ou cadeia ramificada, com 1 a 10 átomos de carbono, um composto heterocíclico contendo nitrogênio com 2 a 20 átomos de carbono, e um composto heteroaromático contendo nitrogênio com 2 a 20 átomos de carbono.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

16.3

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 17/12/2007, observadas as condições legais. Patente concedida conforme ADI 5.529/DF, que determina a alteração do prazo de concessão

27/07/2021

RPI 2638

Concessão da patente

#16.1

27/11/2018

RPI 2499

Deferimento

#9.1

09/10/2018

RPI 2492

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

29/05/2018

RPI 2473

7.7

NOTIFICAÇÃO DE DEVOLUÇÃO DO PEDIDO POR NÃO SE ENQUADRAR NO ART. 229-C DA LPI.

08/05/2018

RPI 2470

Ciência (anuência ANVISA - art. 229-C)

#7.4

De acordo com o artigo 229-C da Lei nº 10196/2001, que modificou a Lei nº 9279/96, a concessão da patente está condicionada à anuência prévia da ANVISA. Considerando a aprovação dos termos do Parecer nº 337/PGF/EA/2010, bem como a Portaria Interministerial Nº 1065 de 24/05/2012, encaminha-se o presente pedido para as providências cabíveis.

24/10/2017

RPI 2442

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

14/01/2014

RPI 2245

Alteração de dados cadastrais

#1.1

09/08/2011

RPI 2118

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