Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2161 de 05/06/2012.
23/10/2012
RPI 2181
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Dado oficial do INPI
MÉTODO PARA A PRODUÇÃO DE SILÍCIO DE ALTA PUREZA
Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · JP2006304199
Dados do pedido
Número
PI0609255Tipo
Patente de Invenção
Depósito
28/02/2006
Publicação
09/03/2010
PCT
JP2006304199 Andamento no INPI
- Depósito28/02/06
- Publicação09/03/10
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 23/10/2012. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
NIPPON STEEL MATERIALS CO., LTD.
JP
Inventores
J. K. (pessoa física)
JP
K. O. (pessoa física)
JP
M. O. (pessoa física)
JP
N. I. (pessoa física)
JP
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
JP
2005-062556 · 07/03/2005
JP
2006-034342 · 10/02/2006
Resumo técnico
MÉTODO PARA A PRODUÇÃO DE SILÍCIO DE ALTA PUREZA. A presente invenção refere-se a um método para a produção de uma grande quantidade de silício de alta pureza econômico útil em uma bateria solar. É descrito um método para a produção do silício de alta pureza pela migração de impurezas no silício fundido para a escória incluindo a etapa de alimentar um agente oxidante para o silício fundido junto com a escória, em que o agente oxidante é um material compreendendo como um componente primário pelo menos um dos seguintes materiais: carbonato de metal alcalino, hidrato de carbonato de metal alcalino, hidróxido de metal alcalino, carbonato de metal alcalino-terroso, hidrato de carbonato de metal alcalino-terroso ou hidróxido de metal alcalino-terroso.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente às 4ª, 5ª e 6ª anuidades.
05/06/2012
RPI 2161
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
09/03/2010
RPI 2044
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