Manutenção do arquivamento
#11.20
24/09/2020
RPI 2594
Dados do pedido
Número
PI0519407Tipo
Depósito
Publicação
PCT
JP2005023853 Pedido arquivado pelo INPI. O processo foi encerrado sem chegar a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 24/09/2020. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
EISAI R&D MANAGEMENT CO., LTD.
JP
Inventores
S. F. (pessoa física)
JP
Y. U. (pessoa física)
JP
Classificação IPC
Prioridades unionistas
JP
2004-376770 · 27/12/2004
JP
2005-110404 · 06/04/2005
JP
2005-132338 · 28/04/2005
US
60/675482 · 28/04/2005
Resumo técnico
PREPARAÇÃO DE LIBERAÇÃO SUSTENTADA DO TIPO MATRIZ CONTENDO DROGA BÁSICA OU SEU SAL E MÉTODO PARA A FABRICAÇÃO DA MESMA. Preparação de liberação sustentada do tipo matriz e um método de fabricação para a mesma são proporcionados em que a dissolução com dependência de um baixo pH de uma droga básica ou seu sal no estágio inicial de dissolução pode ser assegurada em um teste de dissolução, e em que à medida que o teste de dissolução prossegue, a relação de uma taxa de dissolução da droga básica ou o seu sal em uma solução ácida de teste para uma taxa de dissolução da droga básica ou seu sal em uma solução neutra de teste (taxa de dissolução na solução ácida de teste / taxa de dissolução na solução neutra de teste) diminui com o tempo de dissolução no último estágio de dissolução, quando comparado com o estágio inicial de dissolução. De acordo com a presente invenção, a preparação de liberação sustentada do tipo matriz contém uma droga básica ou seu sal e pelo menos um polímero entérico, em que a solubilidade da droga básica ou seu sal em uma solução de ácido clorídrico a 0,1 N e a solução aquosa neutra, pH 6,0 é maior do que em uma solução aquosa básica, pH 8,0.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.20
24/09/2020
RPI 2594
#11.5
ARQUIVADO O PEDIDO, UMA VEZ QUE NÃO FORAM ATENDIDAS AS EXIGÊNCIAS PREVISTAS NO ART. 34 DA LPI. DESTA DATA CORRE O PRAZO DE 60(SESSENTA) DIAS PARA EVENTUAL RECURSO DO INTERESSADO.
08/01/2019
RPI 2505
25/09/2018
RPI 2490
#6.6.1
24/04/2018
RPI 2468
Referente à RPI 2059 de 22/06/2010.
06/07/2010
RPI 2061
#11.1
22/06/2010
RPI 2059
#1.3
20/01/2009
RPI 1985
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