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Dado oficial do INPI

PREPARAÇÃO DE LIBERAÇÃO SUSTENTADA DO TIPO MATRIZ CONTENDO DROGA BÁSICA OU SEU SAL E MÉTODO PARA A FABRICAÇÃO DA MESMA

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · JP2005023853

Dados do pedido

Número

PI0519407

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

27/12/2005

Publicação

20/01/2009

PCT

JP2005023853

Andamento no INPI

  1. Depósito27/12/05
  2. Publicação20/01/09
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado pelo INPI. O processo foi encerrado sem chegar a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 24/09/2020. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

EISAI R&D MANAGEMENT CO., LTD.

JP

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Inventores

S. F. (pessoa física)

JP

Y. U. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Prioridades unionistas

JP

2004-376770 · 27/12/2004

JP

2005-110404 · 06/04/2005

JP

2005-132338 · 28/04/2005

US

60/675482 · 28/04/2005

Resumo técnico

PREPARAÇÃO DE LIBERAÇÃO SUSTENTADA DO TIPO MATRIZ CONTENDO DROGA BÁSICA OU SEU SAL E MÉTODO PARA A FABRICAÇÃO DA MESMA. Preparação de liberação sustentada do tipo matriz e um método de fabricação para a mesma são proporcionados em que a dissolução com dependência de um baixo pH de uma droga básica ou seu sal no estágio inicial de dissolução pode ser assegurada em um teste de dissolução, e em que à medida que o teste de dissolução prossegue, a relação de uma taxa de dissolução da droga básica ou o seu sal em uma solução ácida de teste para uma taxa de dissolução da droga básica ou seu sal em uma solução neutra de teste (taxa de dissolução na solução ácida de teste / taxa de dissolução na solução neutra de teste) diminui com o tempo de dissolução no último estágio de dissolução, quando comparado com o estágio inicial de dissolução. De acordo com a presente invenção, a preparação de liberação sustentada do tipo matriz contém uma droga básica ou seu sal e pelo menos um polímero entérico, em que a solubilidade da droga básica ou seu sal em uma solução de ácido clorídrico a 0,1 N e a solução aquosa neutra, pH 6,0 é maior do que em uma solução aquosa básica, pH 8,0.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Manutenção do arquivamento

#11.20

24/09/2020

RPI 2594

Arquivamento - Art. 34 da LPI

#11.5

ARQUIVADO O PEDIDO, UMA VEZ QUE NÃO FORAM ATENDIDAS AS EXIGÊNCIAS PREVISTAS NO ART. 34 DA LPI. DESTA DATA CORRE O PRAZO DE 60(SESSENTA) DIAS PARA EVENTUAL RECURSO DO INTERESSADO.

08/01/2019

RPI 2505

6.20

25/09/2018

RPI 2490

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

24/04/2018

RPI 2468

11.14

Referente à RPI 2059 de 22/06/2010.

06/07/2010

RPI 2061

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

22/06/2010

RPI 2059

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

20/01/2009

RPI 1985

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