Dados do pedido
Número
PI0514058Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2005022598 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 09/03/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Avantor Performance Materials, Inc.
US
Mallinckrodt Baker Inc.
US
Inventores
S. K. (pessoa física)
US
Prioridades unionistas
US
60/598,318 · 03/08/2004
Resumo técnico
COMPOSIÇÕES PARA LIMPEZA DE SUBSTRATOS MICROELETRÕNICOS. A presente invenção refere-se a uma composição de limpeza e polimento para limpar substratos microeletrônicos, a composição compreende: pelo menos um solvente de polimento orgânico, pelo menos uma amina nucleofilica, pelo menos um ácido fraco não contendo nitrogênio em uma quantidade suficiente para neutralizar cerca de 3% a 75% em peso da amina nucleofílica de tal maneira que a composição de polimento tenha um pH aquoso de cerca de 9,6 a 10,9, e o dito ácido fraco tenda um valor de pK em solução aquosa de 2,0 ou mais e um peso equivalente de menos de 140, pelo menos um composto para remoção de metal selecionado do grupo consistindo em dietileno glicol e dietileno glicolamina, e água, e método para limpar substratos microeletrônicos com essas composições.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2602 de 17-11-2020 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
09/03/2021
RPI 2618
#8.6
Referente às 8ª, 9ª, 10ª, 11ª, 12ª, 13ª, 14ª e 15ª anuidades.
17/11/2020
RPI 2602
Anulada a publicação código 8.12 na RPI nº 2260 de 29/04/2014 por ter sido indevida.
10/11/2020
RPI 2601
Referente ao não recolhimento das 8ª e 9ª anuidades.
29/04/2014
RPI 2260
#25.4
Nome Alterado de: Mallinckrodt Baker, Inc.
09/08/2011
RPI 2118
#1.3
27/05/2008
RPI 1951
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