Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
16/08/2016
RPI 2380
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Dado oficial do INPI
COMPOSIÇÕES REMOVEDORAS PARA LIMPEZA DE FOTORRESISTOR IMPLANTADO POR ÍONS DE DISCOS DE SILÍCIO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES
ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US2010024529
Dados do pedido
Número
PI1008034Tipo
Patente de Invenção
Depósito
18/02/2010
Publicação
15/03/2016
PCT
US2010024529 Andamento no INPI
- Depósito18/02/10
- Publicação15/03/16
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 18/02/2010, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 16/08/2016. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Avantor Performance Materials, Inc.
US
Inventores
G. W. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Prioridades unionistas
US
61/155,206 · 25/02/2009
US
61/232,800 · 11/08/2009
Resumo técnico
COMPOSIÃÃES REMOVEDORAS PARA LIMPEZA DE FOTORRESISTOR IMPLANTADO POR ÃONS DE DISCOS DE SILÃCIO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUTORESA presente invenção refere-se a uma composição para a remoção de fotorresistor implantado por Ãons de alta dosagem da superfÃcie de um dispositivo semicondutor, a composição contendo pelo menos um solvente com um ponto de fulgor> 65°C, pelo menos um componente que forneça um Ãon nitrônio e pelo menos um composto inibidor da corrosão de ácido fosfônico, e uso dessa composição para remover o fotorresistor implantado por Ãons de alta dosagem da superfÃcie de um dispositivo semicondutor..
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
24/05/2016
RPI 2368
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
15/03/2016
RPI 2358
Alteração de dados cadastrais
#1.1
21/11/2012
RPI 2185
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