Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2260 de 29/04/2014.
26/08/2014
RPI 2277
Dados do pedido
Número
PI0418529Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2004037135 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 26/08/2014. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Avantor Performance Materials, Inc.
US
Mallinckrodt Baker, Inc.
US
Inventores
C. H. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
60/543,801 · 11/02/2004
Resumo técnico
OMPOSIÇÕES DE LIMPEZA PARA MICROELETRÔNICOS CONTENDO ÁCIDOS DE HALOGÊNIO OXIGENADOS, SAIS E DERIVADOS DOS MESMOS. A presente invenção refere-se a composições de limpeza de microeletrônicos para a limpeza de sbstratos microeletrônicos e especificamente compostos de limpeza úteis com, e tendo uma compatibilidade aumentada com substratos microeletrônicos caraterizados por dióxido de silício,dielétricos sensiveis de baixo-k e de alto-k e metalizações de cobre, tungstênio, tântalo, níquel, ouro, cobalto, paládio, platina, cromo, rutênio, rádio, háfnio, titânio, molibdênio, estanho e outras metalizações,bem como metelizações de substratos de AI ou AI(cu) e tecnologias interconectadas avançadas, são prividas por composições de limpeza de microeletrônicos compreendendo ácidos de halogênio, sais e derivados dos mesmos.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2260 de 29/04/2014.
26/08/2014
RPI 2277
#8.6
Referente à 9ª anuidade.
29/04/2014
RPI 2260
#25.4
Nome Alterado de: Mallinckrodt Baker, Inc.
09/08/2011
RPI 2118
#25.7
Sede alterada conforme solicitado na Petição nº 020080021179/RJ de 13/02/2008.
12/08/2008
RPI 1962
#1.3
15/05/2007
RPI 1897
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