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Dado oficial do INPI

PLATAFORMA DE PRODUÇÃO P4 PARA GRANDES LÂMINAS D' ÁGUA

ArquivadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI0404706

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

23/07/2004

Publicação

07/03/2006

Andamento no INPI

  1. Depósito23/07/04
  2. Publicação07/03/06
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 23/07/2004, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 31/03/2009. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

J. P. (pessoa física)

SP, BR

Inventores

J. P. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

"PLATAFORMA DE PRODUÇÃO P4 PARA GRANDES LÂMINAS D ÁGUA". Trata-se de uma plataforma marítima destinada a exploração petrolífera em mar aberto, os equipamentos de produção estão alojados no convés (9), esta plataforma poderá também armazenar petróleo em uma quantidade igual ao seu próprio lastro das colunas (2). A plataforma possui a grande vantagem de poder ser construída parcialmente em uma ensecadeira junto ao mar, construiremos apenas parte da estrutura do grande flutuante (1), bem como das colunas (2), representando 30% do grande flutuante (1) bem como das colunas (2). Ao atingir essa fase abriremos a ensecadeira e a estrutura sairá flutuando e será rebocado até um porto no qual completaremos a construção da plataforma. Dessa maneira poderemos construir plataformas em série utilizando-se da ensecadeira. As 4 colunas (2) periféricas vão sustentar no seu topo a estrutura do convés (9), no interior da qual se localizam todos os equipamentos de produção.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

31/03/2009

RPI 1995

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

02/09/2008

RPI 1965

Publicação do pedido de patente

#3.1

07/03/2006

RPI 1835

Pedido de patente depositado

#2.1

30/11/2004

RPI 1769

Monitoramento de patentes

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