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Dado oficial do INPI

COMPOSTOS DERIVADOS DE ARTESUNATO, PROCESSO DE PREPARAÇÃO DESTES COMPOSTOS, COMPOSIÇÃO FARMACÊUTICA CONTENDO OS DITOS COMPOSTOS, USO DO RESPECTIVO MEDICAMENTO NO TRATAMENTO OU PREVENÇÃO DA MALÁRIA OU OUTRAS DOENÇAS PARASITÁRIAS E MÉTODO TERAPÊUTICO

Arquivada/ExtintaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI0401107

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

13/04/2004

Publicação

22/11/2005

Andamento no INPI

  1. Depósito13/04/04
  2. Publicação22/11/05
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 21/05/2019. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Fundação Oswaldo Cruz - FIOCRUZ

BR

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Inventores

A. V. (pessoa física)

BR

A. K. (pessoa física)

BR

M. S. (pessoa física)

BR

N. B. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Resumo técnico

"COMPOSTOS DERIVADOS DE ARTESANATO, PROCESSO DE PREPARAÇÃO DESTES COMPOSTOS, COMPOSIÇÃO FARMACÊUTICA CONTENDO OS DITOS COMPOSTOS, USO DO RESPECTIVO MEDICAMENTO NO TRATAMENTO OU PREVENÇÃO DA MALÁRIA OU OUTRAS DOENÇAS PARASITÁRIAS E MÉTODO TERAPÊUTICO". A presente invenção refere-se a novos compostos derivados de artesanato com quinolinas, representados pela fórmula geral I x^ +^.y^ -^ sendo X representado pela fórmula geral II: e Y representado pela fórmula geral III: Dependendo dos radicais substituídos em X (fórmula II), a relação de X para Y (fórmula III) pode variar de 1:1 a 1:7, pois a quantidade de Y depende da quantidade de N disponível em X para a formação do sal. Os radicais R~ 1~, R~ 2~, R~ 3~, R~ 4~, R~ 5~ e R~ 6~ na fórmula geral II são representados por: R~ 1~ = H, CF~ 3~, CH~ 3~, OCH~ 3~, NH~ 2~, halogênio; R~ 2~ = H, CH~ 3~, NH~ 2~, halogênio, NHCHCH~ 3~ (CH~ 2~)~ 3~N (C~ 2~H~ 5~) (CH~ 2~CH~ 2~OH) , CH (OH)-2-(C~ 5~H~ 11~N), NH-R~ 7~N(C2H5)~ 2~; R~ 3~ = H, m-OC~ 6~H~ 4~CF~ 3~, NH~ 2~; R~ 4 = H, CH~ 3~, OCH~ 3~, NH~ 2~, halogênio; R~ 5~ = H, CH~ 3~, CF~ 3~, NH~ 2~, halogênio; R~ 6~ = H, CF~ 3~, CH~ 3~, NH~ 2~, halogênio, NH-R~ 8~-N- (C~ 2~H~ 5~) ~ 2~, NHCH (CH~ 3~) (CH~ 2~)~ 3~NH~ 2~; R~ 7~ = (CH~ 2~)~ 2~, (CH~ 2~)~ 3~, CH CH~ 3~CH~ 2~,(CH~ 2~)~ 4~,(CH~ 2~)~ 5~, CHCH~ 3~(CH~ 2~)~ 3~, (CH~ 2~)~ 6~, (CH~ 2~)~ 8~, (CH~ 2~)~ 10~, (CH~ 2~)~ 12~; R~ 8~ = CHCH~ 3~ (CH~ 2~)~ 3~, CHCH~ 3~ (CH~ 2~) CHCH~ 3~, (CH~ 2~)~ 2~, (CH~ 2~)~ 3~, (CH~ 2~)~ 6~, (CH~ 2~)~ 3~O~(CH~ 2~)~ 3. A presente invenção também trata de um processo de preparação destes compostos, bem como composições farmacêuticas contendo os compostos da fórmula geral I e especialmente seu uso como medicamento no tratamento ou prevenção da malária ou de outras doenças parasitárias, tais como, doença do sono, doença de Chagas, amebíase, giardíase, tricomoníase, toxoplasmose, leishmaniose e outras helmintoses.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2509 de 05-02-2019 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

21/05/2019

RPI 2524

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 15ª anuidade.

05/02/2019

RPI 2509

Não anuência — art. 229 da LPI

#7.5

NOTIFICAÇÃO DE ANUÊNCIA RELACIONADA COM O ART 229 DA LPI

29/01/2019

RPI 2508

Ciência (anuência ANVISA - art. 229-C)

#7.4

09/05/2017

RPI 2418

Pedido suspenso — exigência de documentos

#6.6

20/12/2016

RPI 2398

8.7

09/10/2012

RPI 2179

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 8ª anuidade.

29/05/2012

RPI 2160

Desarquivamento

#4.3

22/04/2009

RPI 1998

11.14

Referente à RPI nº 1977 de 25/11/2008.

14/04/2009

RPI 1997

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

18/11/2008

RPI 1976

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

02/09/2008

RPI 1965

Publicação do pedido de patente

#3.1

22/11/2005

RPI 1820

Pedido de patente depositado

#2.1

13/07/2004

RPI 1749

Monitoramento de patentes

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