Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2225 de 27/08/2013.
18/02/2014
RPI 2250
Dados do pedido
Número
PI0210895Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2002021436 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 18/02/2014. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Avantor Performance Materials, Inc.
US
Mallinckrodt Baker, Inc.
US
Inventores
C. H. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
60/304,033 · 09/07/2001
Resumo técnico
"COMPOSIÇÕES DE LIMPEZA DE MICROELETRÔNICOS CONTENDO SAIS DE FLUORETO LIVRES DE AMÔNIA PARA REMOÇÃO SELETIVA DO FOTORRESISTE E LIMPEZA DE RESÍDUO DE CINZA DE PLASMA". A presente invenção refere-se a composições de limpeza sem amônia, sem HF, para limpeza de fotorresistores e resíduos de cinza de plasma de substratos microeletrônicos, e particularmente tais composições de limpeza úteis com e tendo compatibilidade aperfeiçoada com substratos microeletrônicos caracterizados por dielétricos porosos sensíveis e de baixo a alto e metalização de cobre. A composição de limpeza contém um ou mais sal de fluoreto que não produz amônio, que não produz HF, (sal de fluoreto de amônio quaternário, de não-amônio) em uma matriz de solvente adequada.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2225 de 27/08/2013.
18/02/2014
RPI 2250
#8.6
referente a 11ª anuidade
27/08/2013
RPI 2225
#25.4
Nome Alterado de: Mallinckrodt Baker, Inc.
09/08/2011
RPI 2118
#25.7
Sede alterada conforme solicitado na Petição nº 020080021179/RJ de 13/02/2008.
19/08/2008
RPI 1963
#1.3
22/06/2004
RPI 1746
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