Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2225 de 27/08/2013.
18/02/2014
RPI 2250
Dados do pedido
Número
PI0210888Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2002021375 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 18/02/2014. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Avantor Performance Materials, Inc.
US
Mallinckrodt Baker Inc.
US
Inventores
C. H. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
60/304,036 · 09/07/2001
Resumo técnico
"COMPOSIÇÕES DE LIMPEZA MICROELETRÔNICA ALCALINAS ISENTAS DE AMÔNIO COM APERFEIÇOADA COMPATIBILIDADE DE SUBSTRATO". A presente invenção refere-se a composições de limpeza livres de amônia para limpeza de substratos microeletrônicos, e particularmente a tais composições de limpeza úteis com e tendo aperfeiçoada compatibilidade com substratos microeletrônicos caracterizados por dielétricos porosos sensíveis, dielétricos de baixo-~ k~, ou alto-~ k~, e metalização de cobre. Composições de limpeza para separação de fotorresistores, resíduos de limpeza de compostos orgânicos, organo - metálicos e inorgânicos gerados de plasma, e resíduos de limpeza de processos de planarização. A composição de limpeza contém uma ou mais bases fortes produzindo não-amônio contendo contra-íons carregados positivamente, não-nucleofílicos, e um ou mais compostos solventes inibidores de corrosão, o dito composto solvente inibidor de corrosão tendo pelo menos dois sítios capazes de complexação com metais.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2225 de 27/08/2013.
18/02/2014
RPI 2250
#8.6
referente a 11ª anuidade
27/08/2013
RPI 2225
#25.4
Nome Alterado de: Mallinckrodt Baker, Inc.
09/08/2011
RPI 2118
#25.7
Sede alterada conforme solicitado na Petição nº 020080021179/RJ de 13/02/2008.
25/03/2008
RPI 1942
#1.3
22/06/2004
RPI 1746
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