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Dado oficial do INPI

PROCESSO DE PROTEÇÃO CONTRA ATAQUE DE MICRORGANISMOS E/OU TOTAL IMPERMEABILIZAÇÃO CONTRA A ÁGUA, PARA PROTEÇÃO DE SUPERFÍCIES LIGNO-CELULÓSICAS, ESPECIALMENTE GRÃOS DE CONSUMO HUMANO

Arquivada/ExtintaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI0203566

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

28/05/2002

Publicação

25/05/2004

Andamento no INPI

  1. Depósito28/05/02
  2. Publicação25/05/04
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 14/06/2011. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

A. C. (pessoa física)

SP, BR

M. S. (pessoa física)

SP, BR

N. D. (pessoa física)

SP, BR

R. C. (pessoa física)

SP, BR

Inventores

A. C. (pessoa física)

BR

M. S. (pessoa física)

BR

N. D. (pessoa física)

BR

R. C. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Resumo técnico

"PROCESSO DE PROTEÇÃO CONTRA ATAQUE DE MICRORGANISMOS E/OU TOTAL IMPERMEABILIZAÇÃO CONTRA A ÁGUA, PARA PROTEÇÃO DE SUPERFÍCIES LIGNO-CELULÓSICAS, ESPECIALMENTE GRÃOS DE CONSUMO HUMANO". Onde o reagente hexametildissilazana, abreviado HMDS, é usado em três processos e/ou metodologias de proteção de grãos contra ataque de microrganismos e/ou sua total impermeabilização contra água, a partir da modificação das fibras ligno-celulósicas, tanto por via seca quanto úmida. Os processos são como segue: Processo I) Deposição usando vapor de HMDS: Utiliza-se um reator a vácuo, com capacidade de obter pressão última da ordem de dezenas de Torr. É recomendável que este reator tenha uma pré-câmara e um pré-vácuo, também de dezenas de Torr, e que permitia a total exposição da amostra ao vapor de HMDS. Processo II) Deposição por "spray": Utiliza-se um reator formado por sistema de inserção de gases e bicos de injeção ("spray"). É recomendável que este reator tenha uma pré-câmara com um sistema de inserção de gases. Esse reator também deve permitir a total exposição da amostra ao jato de HMDS. Processo III) Processo de deposição química a vapor enriquecida por plasma: Deposita-se uma camada a base de HMDS, afim de tornar suas superfícies impermeáveis à água e resistentes à corrosão por ácidos, bases e luz ultravioleta. O reator necessário para tal processamento deve permitir a injeção de gases e líquidos, possuir pressão última da ordem de 1 mTorr e operar com gerador de potência, em freqüências alternadas ou contínua.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2060 de 29/06/2010.

14/06/2011

RPI 2110

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente a 6ª, 7ª e 8ª anuidade(s).

29/06/2010

RPI 2060

Publicação do pedido de patente

#3.1

25/05/2004

RPI 1742

Pedido de patente depositado

#2.1

15/10/2002

RPI 1658

Monitoramento de patentes

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