Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2055 de 25/05/2010.
14/06/2011
RPI 2110
Dados do pedido
Número
PI0203565Tipo
Depósito
Publicação
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 14/06/2011. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
A. C. (pessoa física)
SP, BR
M. S. (pessoa física)
SP, BR
R. C. (pessoa física)
SP, BR
Inventores
A. C. (pessoa física)
BR
M. S. (pessoa física)
BR
R. C. (pessoa física)
BR
Resumo técnico
"PROCESSO DE PROTEÇÃO CONTRA ATAQUE DE MICRORGANISMOS E/OU HIDROFILIZAÇÃO, PARA TRATAMENTO DE SEMENTES, ESPECIALMENTE GRÃOS DE CONSUMO HUMANO, E SUPERFÍCIES LIGNO-CELULÓSICAS". Onde o reagente tetractilortossilicato, abreviado TEOS, é usado em dois processos elou metodologias de fabricação de camada protetora, para sementes e superfícies ligno-celulósicas, que permitem proteção contra ataque de microrganismos, hidrofilização da superfície, germinação com maior velocidade e em condições de menor umidade relativa. Os processos são como segue: Processo I) Deposição por "spray": Utiliza-se um reator formado por sistema de inserção de gases e bicos de injeção ("spray"). É recomendável que este reator tenha uma pré-câmara para controle de umidade e exposição a gases. Esse reator também deve permitir a total exposição da amostra ao jato de TEOS. O jato de TEOS deve ser formado em câmara separada e aquecida. Processo II) Processo de deposição química a vapor enriquecida por plasma: Deposita-se uma camada a base de TEOS, afim de tornar as superfícies resistentes a microrganismos e a vapor de água, mas não a água. O reator necessário para tal processamento deve permitir a injeção de gases e líquidos, possuir pressão última da ordem de 1 mTorr e operar com gerador de potência, em freqüências alternadas ou contínua.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2055 de 25/05/2010.
14/06/2011
RPI 2110
#8.6
Referente 6a., 7a., e 8a. anuidades.
25/05/2010
RPI 2055
#3.1
25/05/2004
RPI 1742
#2.1
22/10/2002
RPI 1659
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