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Dado oficial do INPI

PROCESSO DE PROTEÇÃO CONTRA ATAQUE DE MICRORGANISMOS E/OU HIDROFILIZAÇÃO, PARA TRATAMENTO DE SEMENTES, ESPECIALMENTE GRÃOS DE CONSUMO HUMANO, E SUPERFÍCIES LIGNO-CELULÓSICAS

Arquivada/ExtintaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI0203565

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

28/05/2002

Publicação

25/05/2004

Andamento no INPI

  1. Depósito28/05/02
  2. Publicação25/05/04
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 14/06/2011. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

A. C. (pessoa física)

SP, BR

M. S. (pessoa física)

SP, BR

R. C. (pessoa física)

SP, BR

Inventores

A. C. (pessoa física)

BR

M. S. (pessoa física)

BR

R. C. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Resumo técnico

"PROCESSO DE PROTEÇÃO CONTRA ATAQUE DE MICRORGANISMOS E/OU HIDROFILIZAÇÃO, PARA TRATAMENTO DE SEMENTES, ESPECIALMENTE GRÃOS DE CONSUMO HUMANO, E SUPERFÍCIES LIGNO-CELULÓSICAS". Onde o reagente tetractilortossilicato, abreviado TEOS, é usado em dois processos elou metodologias de fabricação de camada protetora, para sementes e superfícies ligno-celulósicas, que permitem proteção contra ataque de microrganismos, hidrofilização da superfície, germinação com maior velocidade e em condições de menor umidade relativa. Os processos são como segue: Processo I) Deposição por "spray": Utiliza-se um reator formado por sistema de inserção de gases e bicos de injeção ("spray"). É recomendável que este reator tenha uma pré-câmara para controle de umidade e exposição a gases. Esse reator também deve permitir a total exposição da amostra ao jato de TEOS. O jato de TEOS deve ser formado em câmara separada e aquecida. Processo II) Processo de deposição química a vapor enriquecida por plasma: Deposita-se uma camada a base de TEOS, afim de tornar as superfícies resistentes a microrganismos e a vapor de água, mas não a água. O reator necessário para tal processamento deve permitir a injeção de gases e líquidos, possuir pressão última da ordem de 1 mTorr e operar com gerador de potência, em freqüências alternadas ou contínua.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2055 de 25/05/2010.

14/06/2011

RPI 2110

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente 6a., 7a., e 8a. anuidades.

25/05/2010

RPI 2055

Publicação do pedido de patente

#3.1

25/05/2004

RPI 1742

Pedido de patente depositado

#2.1

22/10/2002

RPI 1659

Monitoramento de patentes

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