Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
25/04/2006
RPI 1842
Dados do pedido
Número
PI0113410Tipo
Depósito
Publicação
PCT
SE2001001683 Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 27/07/2001, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 25/04/2006. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Microdrug AG
CH
Inventores
N. L. (pessoa física)
SE
N. T. (pessoa física)
SE
Classificação IPC
Prioridades unionistas
SE
0003082-5 · 31/08/2000
Resumo técnico
"DOSE ELETROSTÁTICA MEDIDA". A presente invenção refere-se a uma dose eletrostática e um método e um processo para a obtenção de uma dose eletrostática. A dose eletrostática consiste em um pó medicinal medido e é formada a partir de um pó eletrostático consistindo de uma sustância ativa em pó ou uma formulação medicinal na forma de po seco, que e transferida para sobre um membro do dispositivo que forma um suporte de dose. A dose eletrostática preparada a partir de um pó eletrostático apresenta uma fração de partículas finas (FPF) contendo da ordem de 50% ou mais de seu conteúdo com tamanho de partícula entre 0,5 e 5 m. O pó eletrostático de tal dose eletrostática medida provê ainda propriedades eletrostáticas no que diz respeito à carga específica absoluta por massa após a carga da ordem de 0,1 a 25 C/g, e apresenta uma constante de decaimento de carga Q~ 50~ maior que 0,1 segundos, com uma densidade tap menor que 0,8 g/ml. A porosidade da dose eletrostática é ajustada por meio de vibração mecânica e/ou elétrica do membro do dispositivo recipiente de dose durante, a operação de obtenção da dose eletrostática, para obter-se um valor de porosidade otimizado de 75 a 99,9% calculado como 100-100x (Densidade~ dose-eletrostática~/Densidade~ pó-eletrostático~). O método e o processamento da dose eletrostática são parcialmente ilustrados por um fluxograma no qual as etapas 230 a 270 apresentam os parâmetros necessários que devem ser mantidos sob controle.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.1.1
25/04/2006
RPI 1842
#11.1
04/10/2005
RPI 1813
#1.3
29/07/2003
RPI 1699
Do mesmo titular
Da mesma categoria
Monitoramento de patentes
Receba alertas de despachos, decisões e vencimentos do INPI para o seu portfólio.