Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
18/04/2006
RPI 1841
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Dado oficial do INPI
MÉTODO E SISTEMA PARA REMOÇÃO DE PÓ E DE EMANAÇÕES EM MÁQUINAS DE MARCAÇÃO À LASER
ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US2001018629
Dados do pedido
Número
PI0112593Tipo
Patente de Invenção
Depósito
08/06/2001
Publicação
22/07/2003
PCT
US2001018629 Andamento no INPI
- Depósito08/06/01
- Publicação22/07/03
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 08/06/2001, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 18/04/2006. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Advanced Micro Devices, INC.
US
Inventores
P. P. (pessoa física)
TH
S. S. (pessoa física)
TH
S. V. (pessoa física)
TH
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
09/619.984 · 20/07/2000
Resumo técnico
"MÉTODO E SISTEMA PARA REMOÇÃO DE PÓ E DE EMANAÇÕES EM MÁQUINAS DE MARCAÇÃO A LASER". São apresentados aspectos de remoção de pó e de emanações para uma máquina de marcação a laser (16) . Em um aspecto do sistema, o sistema inclui um conjunto a vácuo (20, 22 e 24), que opera de acordo com o Efeito de Coanda, para a remoção do pó e das emanações de uma máquina de marcação a laser (16), através de sucção. O sistema ainda inclui um mecanismo de controle acoplado ao conjunto a vácuo (20, 22 e 24), para ligar e desligar o conjunto a vácuo (20, 22 e 24) . Um sistema de drenagem (28 e 30), acoplado ao conjunto a vácuo (20, 22 e 24), descarta o pó e as emanações a partir do conjunto a vácuo (20, 22 e 24) de uma instalação que aloja a máquina de marcação a laser (16).
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
04/10/2005
RPI 1813
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
22/07/2003
RPI 1698
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