Indeferimento mantido em recurso
#9.2.4
MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL.
15/10/2013
RPI 2232
Dados do pedido
Número
PI0112505Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2001022131 Pedido indeferido em 15/10/2013 e o recurso não mudou a decisão. A invenção não chegou a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 15/10/2013. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Microcoating Technologies, INC.
US
nGimat Co.
US
Inventores
A. H. (pessoa física)
US
G. D. (pessoa física)
US
P. F. (pessoa física)
US
T. H. (pessoa física)
US
Y. J. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
60/218,422 · 14/07/2000
Resumo técnico
"PELÍCULAS FINAS CRISTALINAS COM ESPESSURA DE GRÃO REDUZIDO". São reveladas películas finas com espessura de grão reduzido (RGB) para uso como eletrólitos em células de combustível de óxido sólido (SOFC), membranas de separação de gás ou materiais dielétricos em dispositivos eletrônicos, fotônicos, freqüência de rádio e piroelétricos. Por uso de CCVD, CACVD ou qualquer outro processo de deposição apropriado, as películas de RGB possuindo espessuras de grãos ideais, isentos de poro e estrutura densa podem ser formadas. Além disto, o uso de películas finas de RGB para eletrólitos e formação de eletrodo em SOFCs resulta na densificação para microestrutura de espessura/interface de grão ideal e isenta de poros. São também reveladas membranas de separação de gás para a produção de oxigênio e hidrogênio. Estas membranas semipermeáveis são formadas de camadas de película fina de alta qualidade, densas, herméticas a gás de óxidos de condução misturados sobre substratos cerâmicos porosos. As películas finas de RGB como material dielétrico nos capacitores são também ensinadas aqui. Os capacitores são utilizados de acordo com seus valores de capacitância que dependem de sua estrutura física e permissividade dielétrica. As películas finas de RGB da presente invenção formam camadas dielétricas de perda baixa, com permissividade extremamente alta. Esta permissividade alta faz com que haja formação de dispositivos eletrônicos, fotônicos, etc. que podem ter suas propriedades ajustadas para aplicação de uma inclinação de corrente contínua entre seus eletrodos.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#9.2.4
MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL.
15/10/2013
RPI 2232
#9.2
14/08/2012
RPI 2171
#7.1
20/12/2011
RPI 2137
#6.1
29/03/2011
RPI 2099
#25.4
Alterado de: MicroCoating Technologies, Inc.
12/05/2009
RPI 2001
#25.5
Indeferido o pedido de Alteração de Nome e Sede solicitados através da Petição nº 020040000931/RJ de 07/10/2004, por não cumprimento de exigência publicada na RPI 1877 de 26/12/2006.
27/03/2007
RPI 1890
#25.6
A fim de atender o solicitado na Petição de Alteração de Nome e Sede nº 020040000931/RJ de 07/10/2004, queira reapresentar o documento de alteração de nome com a respectiva notarização e legalização consular, bem como procuração emitida pela interessada constando nome e endereço atualizados.
26/12/2006
RPI 1877
#1.3
26/08/2003
RPI 1703
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