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Dado oficial do INPI

VÁLVULA PIEZOELÉTRICA

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · JP2022028821

Dados do pedido

Número

112024001957

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

26/07/2022

Publicação

24/04/2024

PCT

JP2022028821

Andamento no INPI

  1. Depósito26/07/22
  2. Publicação24/04/24
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 16/06/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

M. C. (pessoa física)

JP

S. C. (pessoa física)

JP

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Inventores

S. C. (pessoa física)

JP

T. M. (pessoa física)

JP

T. I. (pessoa física)

JP

Z. W. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

JP

2021-126821 · 02/08/2021

Resumo técnico

VÁLVULA PIEZOELÉTRICA. Uma válvula piezoelétrica inclui: um atuador tendo um disco de válvula e configurado para acionar o disco de válvula; uma placa de sede de válvula tendo uma sede de válvula, que é colocada em contato e separada do disco de válvula, e um caminho de descarga e configurada para fixar o atuador; e uma caixa do corpo configurado para acomodar a placa de sede de válvula. O atuador inclui um elemento piezoelétrico configurado para gerar a força de acionamento necessária para uma operação do disco de válvula como deslocamento e um mecanismo amplificador de deslocamento configurado para amplificar o deslocamento do elemento piezoelétrico e exercer o deslocamento amplificado no disco de válvula. A caixa do corpo inclui um orifício de abastecimento de gás abastecido com um gás comprimido e um orifício de descarga de gás configurado para, por separação do disco de válvula e da sede de válvula um do outro, descarregar um gás comprimido abastecido pelo orifício de abastecimento de gás através do caminho de descarga da placa de sede de válvula. A placa de sede de válvula é fixada à caixa do corpo em uma parte frontal no lado tendo o caminho de descarga.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 4ª anuidade.

16/06/2026

RPI 2893

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

24/04/2024

RPI 2781

Alteração de dados cadastrais

#1.1

06/02/2024

RPI 2770

Monitoramento de patentes

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