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Dado oficial do INPI

VÁLVULA PIEZOELÉTRICA E MÉTODO DE FABRICAÇÃO DE VÁLVULA PIEZOELÉTRICA

ConcedidaPatente de InvençãoPCT · JP2020008392

Dados do pedido

Número

112021026351

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

28/02/2020

Publicação

08/02/2022

PCT

JP2020008392

Andamento no INPI

  1. Depósito28/02/20
  2. Publicação08/02/22
  3. Exame
  4. Deferimento10/06/25
  5. Concessão22/07/25
  6. Em vigor28/02/40

Patente concedida em 22/07/2025 e em vigor até 28/02/2040. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.

Proteção válida até:28/02/2040

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Depositantes e inventores

Depositantes

M. C. (pessoa física)

JP

S. C. (pessoa física)

JP

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Inventores

S. C. (pessoa física)

JP

T. M. (pessoa física)

JP

T. I. (pessoa física)

JP

T. H. (pessoa física)

JP

T. H. (pessoa física)

JP

Y. M. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Prioridades unionistas

JP

2019-121551 · 28/06/2019

Resumo técnico

VÁLVULA PIEZOELÉTRICA E MÉTODO DE FABRICAÇÃO DE VÁLVULA PIEZOELÉTRICA. É fornecida uma válvula piezoelétrica incluindo: uma parte principal da válvula incluindo uma câmara de pressão de gás que recebe gás comprimido fornecido de um exterior; uma chapa disposta dentro da parte principal da válvula, e uma atuador fixada na chapa e disposta dentro da parte principal da válvula junto com a chapa. A parte principal da válvula é um invólucro com uma abertura em uma superfície frontal. A chapa é fornecida com um percurso de descarga de gás e um assento de válvula com o qual um elemento de válvula do atuador entra em contato. O atuador abre e fecha o percurso de descarga de gás. Um membro de tampa que fecha a abertura do invólucro tem uma abertura de descarga de gás que se comunica com o percurso de descarga de gás do prato; é soldada e fixada a uma superfície frontal da chapa, onde se abre o percurso de descarga de gás, em uma parte soldada anular em torno da abertura de descarga de gás; e é soldado e fixado a uma superfície de extremidade do invólucro em uma parte soldada anular na parte periférica externa.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 28/02/2020, observadas as condições legais

22/07/2025

RPI 2846

Deferimento

#9.1

10/06/2025

RPI 2840

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

24/12/2024

RPI 2816

Parecer de pré-exame

#6.23

19/12/2023

RPI 2763

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

08/02/2022

RPI 2666

Alteração de dados cadastrais

#1.1

04/01/2022

RPI 2661

Monitoramento de patentes

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