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Dado oficial do INPI

SISTEMA E MÉTODO DE CONTROLE DE VÁLVULA

Em AnálisePatente de InvençãoPCT · US2021026252

Dados do pedido

Número

112023020632

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

07/04/2021

Publicação

19/12/2023

PCT

US2021026252

Andamento no INPI

  1. Depósito07/04/21
  2. Publicação
  3. Exame
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Patente de Invenção (via PCT) depositado no INPI em 07/04/2021. Aguarda exame formal e publicação na RPI.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 19/12/2023. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

RAVEN INDUSTRIES, INC.

US

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Inventores

D. W. (pessoa física)

US

J. D. (pessoa física)

US

J. K. (pessoa física)

US

S. S. (pessoa física)

US

T. B. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Resumo técnico

SISTEMA E MÉTODO DE CONTROLE DE VÁLVULA. Um sistema de controle de pulverizador inclui uma pluralidade de bicos inteligentes, cada um tendo pelo menos uma válvula de controle com um operador de válvula, uma unidade de controle eletrônico para o operador de válvula e um ou mais bicos de pulverização. A pelo menos uma válvula de controle e a ECU controlam uma taxa de fluxo de produto agrícola líquido através dos bicos. Um modulador de ciclo de trabalho está em comunicação com a ECU e gera um ciclo de trabalho aplicado para a pelo menos uma válvula de controle. O modulador de ciclo de trabalho inclui uma entrada de ciclo de trabalho especificada tendo um ciclo de trabalho especificado e um monitor de pressão associado a pelo menos uma válvula de controle. Um comparador de pressão compara a pressão de válvula determinada com o monitor de pressão com uma pressão de sistema e gera um erro de pressão. Um gerador de ciclo de trabalho aplicado gera o ciclo de trabalho aplicado com base no ciclo de trabalho especificado modificado pelo erro de pressão.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

19/12/2023

RPI 2763

Alteração de dados cadastrais

#1.1

17/10/2023

RPI 2754

Monitoramento de patentes

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