Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
25/02/2025
RPI 2825
Dados do pedido
Número
112023010921Tipo
Depósito
Publicação
PCT
EP2021083366 Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 29/11/2021, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 25/02/2025. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
EUROFEEDBACK
FR
Inventores
G. S. (pessoa física)
FR
Classificação IPC
Prioridades unionistas
FR
FR2012647 · 03/12/2020
Resumo técnico
SISTEMA PARA TRATAR UNHAS, DISPOSITIVO PARA TRATAR UNHAS POR EMISSÃO DE PULSOS DE LUZ DE UM TAL SISTEMA, MÉTODO PARA PREPARAR UMA UNHA PARA SER SUBMETIDA A UMTRATAMENTO POR EMISSÃO DE PULSOS DE LUZ POR MEIO DE UM TAL SISTEMA, KIT DE PREPARAÇÃO DE UNHAS, NOTAVELMENTE PARA A IMPLEMENTAÇÃO DESTE MÉTODO, CONJUNTO DEEMPLASTROS A SEREM POSICIONADOS EM UNHAS A SEREM TRATADAS USANDO UM DISPOSITIVO DE EMISSÃO DE PULSO DE LUZ DE UM TAL SISTEMA, SUPORTE E ENCAIXE DE EXTREMIDADE DESTINADOS A PERMITIR O TRATAMENTO DE UNHAS POR UMA CABEÇA ÓPTICA DE UM DISPOSITIVO DE TRATAMENTO DE EMISSÃO DE PULSO DE LUZ DE UM TAL SISTEMA. Um sistema para tratar unhas, compreendendo: - um dispositivo de emissão de luz de pulso (1) que torna possível expor pelo menos uma unha a ser tratada a pelo menos um pulso de luz, ainda melhor a uma rajada de pulsos de luz, - pelo menos um revestimento (16) a ser aplicado à unha ou unhas, absorvendo a luz emitida pelo dispositivo, ou um aplicador de um tal revestimento, notavelmente de refletividade inferior a 50% e/ou transmissividade inferior a 50%, e cuja temperatura de superfície pode exceder 60 °C, e mais preferencialmente 200 °C, sob o efeito da luz emitida pelo dispositivo.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.1.1
25/02/2025
RPI 2825
#11.1
10/12/2024
RPI 2814
#1.3
08/08/2023
RPI 2744
#1.1
13/06/2023
RPI 2736
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