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Dado oficial do INPI

SISTEMA PARA TRATAR UNHAS, DISPOSITIVO PARA TRATAR UNHAS POR EMISSÃO DE PULSOS DE LUZ DE UM TAL SISTEMA, MÉTODO PARA PREPARAR UMA UNHA PARA SER SUBMETIDA A UM TRATAMENTO POR EMISSÃO DE PULSOS DE LUZ POR MEIO DE UM TAL SISTEMA, KIT DE PREPARAÇÃO DE UNHAS, NOTAVELMENTE PARA A IMPLEMENTAÇÃO DESTE MÉTODO, CONJUNTO DE EMPLASTROS A SEREM POSICIONADOS EM UNHAS A SEREM TRATADAS USANDO UM DISPOSITIVO DE EMISSÃO DE PULSO DE LUZ DE UM TAL SISTEMA, SUPORTE E ENCAIXE DE EXTREMIDADE DESTINADOS A PERMITIR O TRATAMENTO DE UNHAS POR UMA CABEÇA ÓPTICA DE UM DISPOSITIVO DE TRATAMENTO DE EMISSÃO DE PULSO DE LUZ DE UM TAL SISTEMA

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · EP2021083366

Dados do pedido

Número

112023010921

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

29/11/2021

Publicação

08/08/2023

PCT

EP2021083366

Andamento no INPI

  1. Depósito29/11/21
  2. Publicação08/08/23
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 29/11/2021, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 25/02/2025. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

EUROFEEDBACK

FR

Inventores

G. S. (pessoa física)

FR

Dados técnicos

Prioridades unionistas

FR

FR2012647 · 03/12/2020

Resumo técnico

SISTEMA PARA TRATAR UNHAS, DISPOSITIVO PARA TRATAR UNHAS POR EMISSÃO DE PULSOS DE LUZ DE UM TAL SISTEMA, MÉTODO PARA PREPARAR UMA UNHA PARA SER SUBMETIDA A UMTRATAMENTO POR EMISSÃO DE PULSOS DE LUZ POR MEIO DE UM TAL SISTEMA, KIT DE PREPARAÇÃO DE UNHAS, NOTAVELMENTE PARA A IMPLEMENTAÇÃO DESTE MÉTODO, CONJUNTO DEEMPLASTROS A SEREM POSICIONADOS EM UNHAS A SEREM TRATADAS USANDO UM DISPOSITIVO DE EMISSÃO DE PULSO DE LUZ DE UM TAL SISTEMA, SUPORTE E ENCAIXE DE EXTREMIDADE DESTINADOS A PERMITIR O TRATAMENTO DE UNHAS POR UMA CABEÇA ÓPTICA DE UM DISPOSITIVO DE TRATAMENTO DE EMISSÃO DE PULSO DE LUZ DE UM TAL SISTEMA. Um sistema para tratar unhas, compreendendo: - um dispositivo de emissão de luz de pulso (1) que torna possível expor pelo menos uma unha a ser tratada a pelo menos um pulso de luz, ainda melhor a uma rajada de pulsos de luz, - pelo menos um revestimento (16) a ser aplicado à unha ou unhas, absorvendo a luz emitida pelo dispositivo, ou um aplicador de um tal revestimento, notavelmente de refletividade inferior a 50% e/ou transmissividade inferior a 50%, e cuja temperatura de superfície pode exceder 60 °C, e mais preferencialmente 200 °C, sob o efeito da luz emitida pelo dispositivo.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

25/02/2025

RPI 2825

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

10/12/2024

RPI 2814

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

08/08/2023

RPI 2744

Alteração de dados cadastrais

#1.1

13/06/2023

RPI 2736

Monitoramento de patentes

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