Concessão da patente
#16.1
Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 03/12/2018, observadas as condições legais
18/03/2025
RPI 2828
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Dado oficial do INPI
MÉTODO E DISPOSITIVO PARA OBTER UM PADRÃO ELEVADO EM UM SUBSTRATO
ConcedidaPatente de InvençãoPCT · ES2018070773
Dados do pedido
Número
112021010693Tipo
Patente de Invenção
Depósito
03/12/2018
Publicação
24/08/2021
PCT
ES2018070773 Andamento no INPI
- Depósito03/12/18
- Publicação24/08/21
- Exame
- Deferimento07/01/25
- Concessão18/03/25
- Em vigor03/12/38
Patente concedida em 18/03/2025 e em vigor até 03/12/2038. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:03/12/2038
Última movimentação publicada pelo INPI: 18/03/2025. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
J. L. (pessoa física)
ES
Inventores
J. L. (pessoa física)
ES
Dados técnicos
Resumo técnico
MÉTODO E DISPOSITIVO PARA OBTER UM PADRÃO ELEVADO EM UM SUBSTRATO.A invenção se refere a um método para obter um padrão elevado em um substrato (1) e ao dispositivo usado, em que o método compreende as seguintes etapas de mover um substrato (1) tendo uma face (1'); fornecer um filme (8) com uma primeira face (8.1); projetar na primeira face (8.1) um produto de padrão elevado (9') usando tecnologia de impressão digital de modo a gerar um padrão positivo elevado na primeira face (8.1); fixar o padrão positivo elevado no filme (8); aplicar um produto de cobertura (4); obter um padrão negativo elevado no produto de cobertura (4) por contato com o padrão positivo elevado; e fixar o padrão negativo elevado na face (1') do substrato (1).
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Deferimento
#9.1
07/01/2025
RPI 2818
Parecer de pré-exame
#6.23
20/09/2022
RPI 2698
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
24/08/2021
RPI 2642
Alteração de dados cadastrais
#1.1
15/06/2021
RPI 2632
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