Concessão da patente
#16.1
Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 24/03/2022, observadas as condições legais
15/04/2025
RPI 2832
Dados do pedido
Número
102022005635Tipo
Depósito
Publicação
Patente concedida em 15/04/2025 e em vigor até 24/03/2042. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:24/03/2042
Última movimentação publicada pelo INPI: 15/04/2025. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
J. L. (pessoa física)
ES
Inventores
J. L. (pessoa física)
ES
Prioridades unionistas
EP
21382250.5 · 26/03/2021
Resumo técnico
MÉTODO E SISTEMA PARA PRODUZIR RELEVOS EM SUBSTRATOS. A invenção refere-se a um método e sistema para produzir relevos em substratos, o método compreendendo a aplicação por impressão digital a jato de tinta (4) de gotas de um material de relevo (3) que é depositado em áreas localizadas da superfície de um substrato (1) para obter uma superfície de relevo com um relevo determinado pelo material de relevo (3) depositado, uma folha de revestimento (2) sendo incorporada sobre o material de relevo (3) depositado, que se ajusta à referida superfície de relevo, a folha de revestimento (2) sendo fixa por colagem por meio de uma cola (5) que é aplicada em conjunto ou em combinação com o material de relevo (3).
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#16.1
Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 24/03/2022, observadas as condições legais
15/04/2025
RPI 2832
#9.1
11/02/2025
RPI 2823
#6.23
05/03/2024
RPI 2774
#3.1
27/09/2022
RPI 2699
#2.1
26/04/2022
RPI 2677
#2.10
Número de Protocolo '870220025499' em 24/03/2022 16:55 (WB)
05/04/2022
RPI 2674
Do mesmo titular
Da mesma categoria
Monitoramento de patentes
Receba alertas de despachos, decisões e vencimentos do INPI para o seu portfólio.