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Dado oficial do INPI

MÉTODO E SISTEMA PARA PRODUZIR RELEVOS EM SUBSTRATOS

ConcedidaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

102022005635

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

24/03/2022

Publicação

27/09/2022

Andamento no INPI

  1. Depósito24/03/22
  2. Publicação27/09/22
  3. Exame
  4. Deferimento11/02/25
  5. Concessão15/04/25
  6. Em vigor24/03/42

Patente concedida em 15/04/2025 e em vigor até 24/03/2042. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.

Proteção válida até:24/03/2042

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Depositantes e inventores

Depositantes

J. L. (pessoa física)

ES

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Inventores

J. L. (pessoa física)

ES

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

EP

21382250.5 · 26/03/2021

Resumo técnico

MÉTODO E SISTEMA PARA PRODUZIR RELEVOS EM SUBSTRATOS. A invenção refere-se a um método e sistema para produzir relevos em substratos, o método compreendendo a aplicação por impressão digital a jato de tinta (4) de gotas de um material de relevo (3) que é depositado em áreas localizadas da superfície de um substrato (1) para obter uma superfície de relevo com um relevo determinado pelo material de relevo (3) depositado, uma folha de revestimento (2) sendo incorporada sobre o material de relevo (3) depositado, que se ajusta à referida superfície de relevo, a folha de revestimento (2) sendo fixa por colagem por meio de uma cola (5) que é aplicada em conjunto ou em combinação com o material de relevo (3).

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 24/03/2022, observadas as condições legais

15/04/2025

RPI 2832

Deferimento

#9.1

11/02/2025

RPI 2823

Parecer de pré-exame

#6.23

05/03/2024

RPI 2774

Publicação do pedido de patente

#3.1

27/09/2022

RPI 2699

Pedido de patente depositado

#2.1

26/04/2022

RPI 2677

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870220025499' em 24/03/2022 16:55 (WB)

05/04/2022

RPI 2674

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