Parecer de pré-exame
#6.23
14/10/2025
RPI 2858
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Dado oficial do INPI
MÉTODO E SISTEMA PARA PRODUZIR UM MOTIVO EM UM SUBSTRATO
Em ExigênciaPatente de InvençãoPCT · ES2022070100
Dados do pedido
Número
112023016766Tipo
Patente de Invenção
Depósito
25/02/2022
Publicação
03/10/2023
PCT
ES2022070100 Andamento no INPI
Parecer técnico a responder- Depósito25/02/22
- Publicação03/10/23
- Exame
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
O INPI emitiu parecer técnico sobre a patenteabilidade. O depositante tem de se manifestar para o exame prosseguir.
Última movimentação publicada pelo INPI: 14/10/2025. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
J. L. (pessoa física)
ES
Inventores
J. L. (pessoa física)
ES
Dados técnicos
Prioridades unionistas
EP
21382167.1 · 26/02/2021
Resumo técnico
MÉTODO E SISTEMA PARA PRODUZIR UM MOTIVO EM UM SUBSTRATO.A invenção refere-se a um método e sistema para produzir um motivo (7) sobre um substrato (1; 4), o método compreendendo, sucessivamente, fornecer uma camada de base (2) cobrindo pelo menos parcialmente o substrato (1; 4), aplicando uma pluralidade de gotas na ou sobre a camada de base (2) e transferir pelo menos parte de um líquido (3) que compreende as referidas gotas ou é pelo menos parcialmente determinado por elas para uma superfície de transferência (S), por adesão do referido líquido (3) para a superfície de transferência (S) quando a superfície de transferência (S) entra em contato com o referido líquido (3) sem deslizar sobre a camada de base (2), a fim de revelar pelo menos parcialmente o motivo (7).
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
03/10/2023
RPI 2752
Alteração de dados cadastrais
#1.1
29/08/2023
RPI 2747
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