Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
15/09/2020
RPI 2593
Dados do pedido
Número
112018009864Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2016061134 Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 15/09/2020. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
AGC FLAT GLASS NORTH AMERICA, INC.
US
A. E. (pessoa física)
BE
AGC INC.
JP
ASAHI GLASS CO., LTD
JP
Inventores
J. C. (pessoa física)
US
P. M. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
14/942,673 · 16/11/2015
US
14/942,737 · 16/11/2015
Resumo técnico
Uma fonte de plasma e método de produção de plasma são fornecidos. A fonte de plasma inclui pelo menos três catodos ocos, incluindo um primeiro catodo oco, um segundo catodo oco e um terceiro catodo oco, tendo cada catodo oco uma região de saída de plasma. A fonte de plasma inclui uma fonte de energia capaz de produzir ondas de saída múltiplas, incluindo uma primeira onda de saída, uma segunda onda de saída e uma terceira onda de saída, em que a primeira onda de saída e a segunda onda de saída estão fora de fase, em que e a terceira onda de saída estão fora de fase e a primeira onda de saída e a terceira onda de saída estão fora de fase. Cada catodo oco é eletricamente conectado à fonte de energia de tal forma que o primeiro catodo oco é eletricamente conectado à primeira onda de saída, o segundo catodo oco é eletricamente conectado à segunda onda de saída, e o terceiro catodo oco é eletricamente conectado ao terceiro onda de saída. A corrente elétrica flui entre os pelo menos três catodos ocos que estão fora da fase elétrica. A fonte de plasma é capaz de gerar um plasma entre os catodos ocos.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
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