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Dado oficial do INPI

DISPOSITIVO PARA MISTURAR E PROCESSO PARA DISPERSÃO DE SUBSTÂNCIAS EM UM DISPOSITIVO

ConcedidaPatente de InvençãoPCT · EP2016056216

Dados do pedido

Número

112017022241

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

22/03/2016

Publicação

10/07/2018

PCT

EP2016056216

Andamento no INPI

  1. Depósito22/03/16
  2. Publicação10/07/18
  3. Exame
  4. Deferimento22/02/22
  5. Concessão12/04/22
  6. Em vigor22/03/36

Patente concedida em 12/04/2022 e em vigor até 22/03/2036. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.

Proteção válida até:22/03/2036

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Última movimentação publicada pelo INPI: 12/04/2022. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

BÜHLER AG

CH

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Inventores

A. S. (pessoa física)

CH

E. N. (pessoa física)

CH

Dados técnicos

Prioridades unionistas

EP

15164059.6 · 17/04/2015

Resumo técnico

A presente invenção refere-se a um dispositivo (1) para misturar, particularmente dispersar, que compreende uma carcaça (2) com pelo menos uma entrada (3). O dispositivo compreende uma primeira região de processo (4), para misturar substâncias alimentadas, sendo que as substâncias podem ser introduzidas pela ao menos uma entrada (3) na primeira região de processo (4). O dispositivo compreende, ainda, uma segunda região de processo (5) para condução da mistura a uma saída (6). Além disso, o dispositivo compreende um primeiro elemento formador de vãos (7), de preferência, um rotor, que está associado à primeira região de processo (4) e compreende aberturas (8), bem como um segundo elemento formador de vãos (9), de preferência, um estator, que está associado à segunda região de processo (5) e corresponde ao primeiro elemento formador de vãos (7), sendo que o segundo elemento formador de vãos (9) compreende aberturas (10). Pelo menos um dos elementos formadores de vãos (7, 9), de preferência, o rotor, está formado de modo rotativo em torno de um eixo de rotação (11), em relação ao outro elemento formador de vãos (7, 9). As aberturas (8) do primeiro elemento formador de vãos (7) e as aberturas (10) do segundo elemento formador de vãos (9) estão dispostas de modo que uma mistura das substâncias alimentadas possa ser guiada pelas aberturas (8, 10) nos dois elementos formadores de vãos (7,9), da primeira (4) para segunda região de processo (5).

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Concessão da patente

#16.1

20 (vinte) anos contados a partir de 22/03/2016, observadas as condições legais

12/04/2022

RPI 2675

Deferimento

#9.1

22/02/2022

RPI 2668

Exigência preliminar

#6.21

27/02/2020

RPI 2564

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

10/07/2018

RPI 2479

Alteração de dados cadastrais

#1.1

24/10/2017

RPI 2442

Monitoramento de patentes

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