Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
12/02/2019
RPI 2510
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Dado oficial do INPI
MÉTODO PARA PROCESSAR UM INVÓLUCRO DE DISPOSITIVO, INVÓLUCRO DE DISPOSITIVO, E, DISPOSITIVO
ArquivadaPatente de InvençãoPCT · CN2015093415
Dados do pedido
Número
112016004900Tipo
Patente de Invenção
Depósito
30/10/2015
Publicação
01/08/2017
PCT
CN2015093415 Andamento no INPI
- Depósito30/10/15
- Publicação01/08/17
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 30/10/2015, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 12/02/2019. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
XIAOMI INC.
CN
Inventores
G. W. (pessoa física)
CN
S. Z. (pessoa física)
CN
X. S. (pessoa física)
CN
Z. L. (pessoa física)
CN
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
CN
201510128804.4 · 23/03/2015
Resumo técnico
São descritos um invólucro de dispositivo e um método para processar o mesmo, assim como um dispositivo, permitindo que o invólucro de dispositivo seja de uma aparência uniforme como um todo. O método inclui: aplicar uma camada de tinta sobre uma camada de filme para formar uma membrana; aderir a membrana a uma superfície interna do invólucro, a camada de tinta da membrana estando em contato com a superfície interna; e remover a camada de filme da membrana aderida à superfície interna, de modo que a superfície interna é aderido com a camada de tinta. Com o método, a superfície interna pode ser aderida com a camada de tinta como requerido, permitindo que a superfície interna do invólucro de dispositivo exiba uma aparência uniforme como um todo, independentemente do material ou do formato do invólucro de dispositivo, e deste modo satisfazendo várias exigências em texturas e materiais, bem como melhorando a estética.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
27/11/2018
RPI 2499
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.
01/08/2017
RPI 2430
Alteração de dados cadastrais
#1.1
01/11/2016
RPI 2391
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