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Dado oficial do INPI

MÉTODO PARA REMOÇÃO DE UNHA ARTIFICIAL, COMPOSIÇÃO DE UNHA ARTIFICIAL, UNHA ARTIFICIAL, MÉTODO DE FORMAÇÃO DE UNHA ARTIFICIAL, E KIT DA TÉCNICA PARA UNHA

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · JP2014065296

Dados do pedido

Número

112015030839

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

10/06/2014

Publicação

25/07/2017

PCT

JP2014065296

Andamento no INPI

  1. Depósito10/06/14
  2. Publicação25/07/17
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 20/07/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

F. C. (pessoa física)

JP

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Inventores

H. O. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Prioridades unionistas

JP

2013-123412 · 12/06/2013

Resumo técnico

RESUMOMÉTODO PARA REMOÇÃO DE UNHA ARTIFICIAL, COMPOSIÇÃO DE UNHA ARTIFICIAL, UNHA ARTIFICIAL, MÉTODO DE FORMAÇÃO DE UNHA ARTIFICIAL, E KIT DA TÉCNICA PARA UNHAUm objetivo da invenção é fornecer um método de remoção de unha artificial pelo qual o peso na ponta do dedo ou unha é reduzido sem comprometer o mérito do brilho de decorações de unha, e sem usar acetona no momento da remoção. Um outro objetivo da invenção é fornecer um kit da técnica para unha e uma composição de unha artificial que são usados para o método de remoção de unha artificial, e uma unha artificial que usa a composição de unha artificial.Divulga-se um método de remoção de unha artificial incluindo uma etapa de aplicar uma composição de unha artificial em ou acima da unha de um ser humano ou um animal, ou em ou acima de um suporte para formar uma película de revestimento; uma etapa de secar e/ou expor à luz a película de revestimento, e desse modo formando uma unha artificial; e uma etapa de remoção de remover a unha artificial levando-se a unha artificial em contato com um líquido de remoção, em que a composição de unha artificial inclui (Componente A) um composto tendo um grupo etilenicamente insaturado e um grupo ácido, e/ou (Componente B) um polímero tendo um grupo ácido, e o líquido de remoção é uma solução aquosa tendo um pH de 8 a 11.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Adição na publicação

#15.35

20/07/2021

RPI 2637

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2517 de 02-04-2019 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

23/07/2019

RPI 2533

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 5ª anuidade.

02/04/2019

RPI 2517

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

27/02/2018

RPI 2460

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.

25/07/2017

RPI 2429

Alteração de dados cadastrais

#1.1

05/01/2016

RPI 2348

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