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Dado oficial do INPI

PROCESSOS COMBINADOS DE DECAPAGEM QUÍMICA E ELETROQUÍMICA PARA A GERAÇÃO DE PARTICULADOS DE SILÍCIO POROSO

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · US2014010438

Dados do pedido

Número

112015016296

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

07/01/2014

Publicação

11/07/2017

PCT

US2014010438

Andamento no INPI

  1. Depósito07/01/14
  2. Publicação11/07/17
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 20/02/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

L. C. (pessoa física)

US

W. U. (pessoa física)

US

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Inventores

M. T. (pessoa física)

US

M. W. (pessoa física)

US

S. B. (pessoa física)

US

S. S. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

61/749.636 · 07/01/2013

Resumo técnico

RESUMOPROCESSOS COMBINADOS DE DECAPAGEM QUÍMICA E ELETROQUÍMICA PARA A GERAÇÃO DE PARTICULADOS DE SILÍCIO POROSOAs modalidades da presente invenção se referem a processos de preparação de particulados de silício poroso por: (a) decapar eletroquimicamente um substrato de silício, onde a decapagem eletroquímica compreende a exposição do substrato de silício a uma densidade de corrente elétrica, e onde a decapagem eletroquímico produz uma película de silício poroso sobre o substrato de silício; (b) separar a película de silício poroso do substrato de silício, onde a separação compreende um aumento gradual da densidade de corrente elétrica em incrementos sequenciais; (c) repetir as etapas (a) e (b) uma pluralidade de vezes; (d) decapar eletroquimicamente o substrato de silício de acordo com a etapa (a) para produzir uma película de silício poroso sobre o substrato de silício; (e) decapar quimicamente a película de silício poroso e o substrato de silício; e (f) dividir a película de silício poroso e o substrato de silício para formar particulados de silício poroso. Outras modalidades da presente revelação se referem a particulados de silício poroso formados e materiais anódicos que os contêm.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2443 de 31-10-2017 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

20/02/2018

RPI 2459

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 4ª anuidade.

31/10/2017

RPI 2443

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.

11/07/2017

RPI 2427

Alteração de dados cadastrais

#1.1

18/08/2015

RPI 2328

Monitoramento de patentes

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