Dados do pedido
Número
112014000395Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2012046308 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 27/08/2019. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
LOTUS APPLIED TECHNOLOGY, LLC
US
Inventores
E. D. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
61/506,607 · 11/07/2011
Resumo técnico
RESUMOPELÍCULAS DE BARREIRA DE ÓXIDO DE METAL MISTO E MÉTODO DE DEPOSIÇÃO DE CAMADA ATÔMICA PARA PREPARAR PELÍCULAS DE BARREIRA DE ÓXIDO DE METAL MISTO Um método de formar uma película fina de camada de barreira (100) de um óxido de metal misto, tal como uma mistura de alumínio, titânio, e oxigênio (AlTiO), compreende exposição sequencial de um substrato (110) tendo uma temperatura de superfície inferior a 100ºC para um precursor de haleto, um plasma de oxigênio, e um precursor metal orgânico. Películas de barreira formadas pelo método exibem taxa de transmissão de vapor de água (WVTR) melhorada sobre as películas individuais de óxido de metal e nanolaminados de dois óxidos de metal tendo uma espessura total similar.1/1
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2522 de 07-05-2019 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
27/08/2019
RPI 2538
#8.6
Referente à 7ª anuidade.
07/05/2019
RPI 2522
#6.6.1
03/04/2018
RPI 2465
#1.3
14/02/2017
RPI 2406
#1.1
13/05/2014
RPI 2262
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