GERAÇÃO DE RADICAL DE OXIGÊNIO POR DEPOSIÇÃO DE PELÍCULA FINA REFORÇADA COM RADICAL.

Classificação IPC

Prioridades unionistas

Resumo técnico

GERAÇÃO DE RADICAL DE OXIGÊNIO POR DEPOSIÇÃO DE PELÍCULA FINA REFORÇADA COM RADICAL. Um método de deposição da camada atômica reforçada com radical (REALD) envolve a exposição alternada de um substrato para um primeiro gás precursor (224) e para os radicais, tais como, radicais de oxigênio monoatômicos (O), gerados a partir de um segundo gás precursor contendo oxigênio (226), mantendo ao mesmo tempo separação espacial ou temporal dos radicais e do primeiro gás precursor. Modelos de reatores simplificados (210) e controle de processo são possíveis quando os primeiros e segundos gases precursores são não-reativos sob condições normais de processamento e podem, portanto, ser misturados após a recombinação dos radicais ou de outro modo diminuir. Em algumas modalidades, o segundo gás precursor (226) é um composto contendo oxigênio, tal como dióxido de carbono (CO2) ou óxido nitroso (N2O), por exemplo, ou uma mistura de tais compostos contendo oxigênio, e que não contêm quantidades significativas de oxigênio normal (O2).