Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
08/06/2021
RPI 2631
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Dado oficial do INPI
PROCESSO PARA A PREPARAÇÃO DE UM COMPOSTO QUIRAL, COMPOSTO QUIRAL CRISTALINO, SAL DE HCL DO COMPOSTO QUIRAL CRISTALINO, COMPOSTO QUIRAL E USO DO COMPOSTO
ArquivadaPatente de InvençãoPCT · EP2011058036
Dados do pedido
Número
112012029226Tipo
Patente de Invenção
Depósito
18/05/2011
Publicação
20/10/2015
PCT
EP2011058036 Andamento no INPI
- Depósito18/05/11
- Publicação20/10/15
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 08/06/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
SANDOZ AG
CH
Inventores
A. P. (pessoa física)
IN
D. C. (pessoa física)
IN
D. S. (pessoa física)
AT
S. B. (pessoa física)
IN
S. M. (pessoa física)
IN
S. J. (pessoa física)
IN
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
EP
10163215.6 · 19/05/2010
Resumo técnico
PROCESSO PARA A PREPARAÃÃO DE UM COMPOSTO QUIRAL., COMPOSTOQUIRAL CRISTALINO, SAL DE HCL DO COMPOSTO QUIRAL CRISTALINO, COMPOSTO QUIRAL E USO DO COMPOSTOA presente invenção refere-se ao processo para a preparação de um composto quiral, de fórmula (IX)ou um sal do mesmo, em Y1 e Y2 são independentemente F ou C1, preferencialmente F, o composto cristalino de fórmula (IX) como tal e sua utilização para a preparação de um agente antifúngico.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Exigência preliminar
#6.21
23/02/2021
RPI 2616
Republicação - classificação IPC
#15.11
A Classificação Anterior era: C07D 405/06
17/02/2021
RPI 2615
Não anuência — art. 229 da LPI
#7.5
09/02/2021
RPI 2614
Ciência (anuência ANVISA - art. 229-C)
#7.4
26/11/2019
RPI 2551
Notificação de acesso ao patrimônio genético
#6.6.1
10/04/2018
RPI 2466
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
20/10/2015
RPI 2337
Alteração de dados cadastrais
#1.1
02/07/2013
RPI 2217
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